• 光谱反射仪

  • 椭偏仪

  • 薄膜应力测量系统

  • HMS-3000霍尔...

  • 石英晶体微天平

  • 高真空MEMS焊封机...

  • 高精度热板/烘台

  • 磁体探针台

  • 低温探针台

  • 等离子刻蚀ICP

  • 等离子刻蚀ICP

  • 半自动引线键合机,焊...

  • 刻蚀残留物去除剂EK...

  • 刻蚀残留物去除剂

  • Bench-Top ...

  • Trion Orio...

  • PECVD沉积

  • 磁控溅射系统

  • Trion Orio...

  • 高真空/超高真空热蒸...

  • 声表面波SAW功率发...

  • AT-400 原子层...

  • ALD/原子层沉积系...

  • 紫外掩膜对准曝光系统...

  • 紫外掩膜曝光机

  • (高)真空快速退火炉...

  • Harrick等离子...

  • PDC-002等离子...

  • 高功率扩展型等离子清...

  • 旋风等离子清洗机

商户名称:韦氏纳米系统(深圳)有限公司

版权所有©2024 产品网