上市时间：2017年2月ALD-4000是一款***的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统，带Labview软件，具备四级密码控制的用户***保护功能原子层沉积技术原子层沉积系统：原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术，具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足***膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积，这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响，所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性，可以提供***的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。原子层沉积系统应用：高介电薄膜疏水涂层钝化层深硅刻蚀铜互连阻挡层薄膜微流控台阶涂层用于催化剂层的单金属涂层的燃料电池ALD-4000原子层沉积系统特点：***的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统Labview软件，具备四级密码控制的用户***保护功能安全互锁设计，强大的灵活性，可以用于沉积多种薄膜（如：AL2O3,AlN,TiN,ZrO2,LaO2,HfO2,等等）12”的铝质反应腔体，带有加热腔壁和气动升降顶盖***多7个50ml的加热汽缸，用于前驱体以及反应物，同时带有N2或者Ar作为运载气体的快脉冲加热传输阀ALD-4000原子层沉积系统选配项：NLD-4000系统的选配项包含自动L/UL上***(用于6”基片)ICP离子源(用于等离子增强的PEALD)臭氧发生器等等客户定制选项)