TrionOrionIIIPECVD薄膜沉积系统可以在紧凑的平台上生产高品质的薄膜。独特的反应器设计可以在在极低的功率生产具有优异台阶覆盖的低应力薄膜。该系统可以满足实验室和中试生产环境中的所有安全，设施和工艺标准要求。TrionOrionIIIPECVD薄膜沉积系统具有许多标准的需求功能，而且是这样一个如此合理价格，这就是为什么许多世界各地的用户已经作出了TrionOrionIIIPECVD薄膜沉积系统的选择。特征：沉积薄膜：氧化物、氮化物、氧氮化物，非晶硅。工艺气体：＜20%***、氨气、正硅酸乙酯、二******、氧化亚氮、氧、氮应用：MEMS,固态照明，失效分析，研发，试验线.)