德国优尼藤***致力于制造真空热工艺处理设备，人性化的设计，桌面型/空间紧凑。在世界各大***大学实验室，研究所等机构广泛应用RTP-100/RTP-100-HV真空快速退火炉应用于4英寸的真空/高真空快速退火应用。应用领域：离子注入/接触退火；快速热处理(RTP)，快速退火(RTA)，快速热氧化(RTO)，快速热氮化(RTN)；可在真空、惰性气氛、氧气、氢气、混合气等不同气体氛围环境下使用；SiAu,SiAl,SiMo合金化；低介电材料；晶体化，致密化；太阳能电池片键合；电阻烧结其他热工艺需求等等...产品特点：-真空快速退火炉，有RTP-100型号低真空(10-3hPa)RTP-100-HV高真空(10-6hPa)；-可应用在不同气氛环境下使用，如惰性气体、氧气、氢氮混合气等；-控制方式：SPS人机界面控制，7英寸触摸屏控制；-可存储50个程序，每个程序***多分为50步骤控制；-全自动智能控制，包括温度、时间、气体流量、真空度、冷却水均可自动设置；-优异的温控均匀性，***的工艺重复性；技术规格：-***高温度：1200℃；-升温速率：150℃/秒；-降温速度：200℃/分钟(1000℃-->400℃)；-温控均匀性：≤1.5%设定温度；-加热方式：红外卤素灯，顶部及底部加热，也可单独控制加热-灯管数量及功率：18支/20KW-腔体冷却：水冷方式，***冷却源-衬底冷却：氮气吹扫；-工艺气路：MFC控制，***多4路(氮气、***气、氧气、氢氮混合气等)；)