真空蒸发镀膜法在真空室中的应用

样品必须是固体；满足***，无性，无污染，无磁，无水，成分稳定要求。表面受到污染的试样，要在不***试样表面结构的前提下进行适当清洗，然后烘干；

新断开的断口或断面，一般不需要进行处理，以免***断口或表面的结构状态；

要侵蚀的试样表面或断口应清洗干净并烘干；

磁性样品预先去磁；

试样大小要适合仪器样品座尺寸。

真空蒸发镀膜法(简称真空蒸镀)是在真空室中，加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分 子从表面气化逸出，形成蒸气流，入射到固体(称为衬 底或基片)表面，凝结形成固态薄膜的方法。

能量色散X射线光谱仪(EnergyDispersiveX

能量色散X射线光谱仪（EnergyDispersive X-Ray Spectroscopy，EDX）

能谱分析是当今材料领域研究人员广泛采用的技术。如图3，利用SEM，各种信号可以提供给定样品的不同信息。当SEM与EDX探测器结合使用时，X射线也可以用作产生化学信息的信号。

EDX借助于试样发出的元素特征X射线波长和强度进行分析，根据波长测定试样所含元素，根据强度测定元素相对含量。

根据探针在待测样品表面扫描方式不同，可分为点、线、面分析三种方式：

<1>点分析

将分析范围***到样品中感兴趣的点上，进行定性或定量分析，常用于显微结构的成分分析，如材料的晶界，析出相，夹杂相等。

<2>线分析

电子束沿着特定的方向进行线扫描，能获得元素含量变化的线分布曲线。如果和样品的形貌像相对照分析，可直观分析元素在不同相或区域内的分布和变化趋势。

<3>面分析

利用电子束对样品表面的特定区域进行扫描，元素在试样表面的分布能在CRT上以亮度分布显示（定性分析）。

扫描电子显微镜是利用材料表面微区的特征

扫描电子显微镜是利用材料表面微区的特征（如形貌、原子序数、化学成分、或晶体结构等）的差异，在电子束作用下通过试样不同区域产生不同的亮度差异，从而获得具有一定衬度的图像。成像信号是二次电子、背散射电子或吸收电子，其中二次电子是主要的成像信号。图3为其成像原理图，高能电子束轰击样品表面，激发出样品表面的各种物理信号，再利用不同的接受物理信号转换成图像信息。

背向散射电子(BackscatteredElectr)

背向散射电子(Backscattered Electr)：入射电子与样品子发生弹性碰撞，而逃离样品表面的高能量电子，其动能等于或略小于入射电子的能量。背向散射电子产生的数量，会因样品元素种类不同而有差异，样品中平均原子序越高的区域，释放出来的背向散射电子越多，背向散射电子影像也就越亮，因此背向散射电子影像有时又称为原子序对比影像。由于背向散射电子产生于距样品表面约5000?的深度范围内，由于入射电子进入样品内部较深，电子束已被散射开来，因此背向散射电子影像分辨率不及二次电子影像。