精密制样设备；前数字指示器显示实时的材料去除率（样品的行程），1微米分辨率；主轴设计保证样品垂直于研磨盘，使之同时旋转。双轴测微计控制样品角坐标设置（斜度和摆度），+10°/-2.5°幅度， 0.01° 增量。后置的数字指示器显示垂直位置（静态），具有归零功能，1微米分辨率；6倍速样品自动摆动。研磨盘速度范围：5-350 RPM（5转速增量）触摸面板控制所有功能。? HP（190瓦）耐用的减速箱电机提供高转矩；顺时针/逆时针研磨盘旋转。

功能：利用不同材料的等离子体具有较好的选择性，能够很好的去除器件内部的塑封料而不损伤焊线或其他金属结构。

应用：可用于表面未作保护的芯片的开封，或对那些对酸十分敏感的产品的环氧材料的去除。可有效应用于激光开封后的芯片的表面处理。

优点：只对环氧材料进行去除，不会对金属焊线和金属布线造成损伤，具有较强的选择性，可以一次进行多颗样品的处理，从而有效地提率。

研磨RIE

RIE是干蚀刻的一种，这种蚀刻的原理是，当在平板电极之间施加10～100MHZ的高频电压（RF，radio frequency）时会产生数百微米厚的离子层，在其中放入试样，离子高速撞击试样而完成化学反应蚀刻，此即为RIE（Reactive Ion Etching）。苏州特斯特电子科技有限公司，主要从事各类测试、检测仪器设备的代理销售和技术服务，产品涵盖电子元器件，电路板，线缆线束的测试与检测。