
在工艺试验和镀液故障分析时,把“正交试验法”和赫尔槽试验结合,可以在多因素试验中减少电流密度这一因素,减少很多的试验。我们在进行快速电铸镍试验时,若采用“正交试验法”在普通小型电镀槽中进行试验,需要试验27次,(若不用“正交试验法”需试验 4455 次 ),而采用“正交试验法” 在赫尔槽中进行试验,只用12 次试验就得到很好的试验结果,大大节省了试验时间和试验费用。在镀液故障分析中,如果能在实践中建立每个镀槽故障赫尔槽试验样板的原始记录,通过比较就能减少更多的试验次数。在电镀工艺试验和镀液故障分析中广泛采用“正交试验法”,因为采用“正交试验法”可以用较少的试验次数,获得较优的试验结果。我们认为,在工艺试验和镀液故障分析中如果能把“正交试验法”和赫尔槽试验结合起来,将可采用更少的试验次数而获得试验结果。
在电镀生产中,为了监控电镀质量变化,必须对各种镀槽的溶液尤其是光亮镀镍和新工艺镀液定期进行赫尔槽试验,制作每种镀液的赫尔槽试验故障样板,建立每个镀槽故障样板的原始记录,每次赫尔槽试验的阴极板应与原始记录故障样板进行比较,若槽液逐渐接近某一样板,说明故障将要发生,就可以及时处理,消灭故障的隐患。

化学镍金的优点之一就是工艺相对简单,只需使用两种关键的化学药,即含有次磷酸盐与镍盐的化学镀液与酸性金水(含有KAu(CN)2)。工艺一般先经过酸洗、微蚀、活化、化学镀镍、清洗、浸金等过程,关键的步骤是在铜焊盘上自催化化学镀镍,通过控制时间和温度以及pH 值等参数来控制镍镀层的厚度;再利用镀好的新鲜镍的活性,将镀好镍的焊盘浸入酸性的金水中,通过化学置换反应将金从溶液中置换到焊盘表面,而部分表面的镍则溶入金水中,这样只要置换上来的金将镍层完全覆盖,则该置换反应自动停止,清洗焊盘表面的污物后工艺即可完成。这就是说化学镍金的工艺相对容易控制,这时的镀金层往往只有约0.03~0.1 微米的厚度,且各种形状或各部位的镀层厚度都均匀一致。
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