电镀厂曾遇到,其产生的原因可能有如下

类似的故障，有不少电镀厂曾遇到，其产生的原因可能有如下：

镀液 中有异金属杂质 ，主要是铜杂质 的影响。在亮镍镀液中的铜 杂质含量不能超过5 m g／L ，否则就 会使低 电流密度 区镀层发暗 ，甚至 变黑灰 。大家知道，镀 亮镍溶液相对其他配位化合盐镀种来说 ，其分散能力较差，即零件受镀表面各处的电流分布相差较大。铜挂钩与零件洞眼接触处 ，因铜钩子的隐蔽作用 ，使流 到这里来的电流大部分被 它吃掉 ，所 以该 处电流 密度 小 ，若镀液中铜杂质含量多 ，就往往使该部位镀层 发黑 。

冷镀锌的附着力鉴别方法

秉承、科技、快捷、准确、诚信的服务精神，为客户提供好产品和服务，合作、共赢是我们的一贯追求。冷镀锌的附着力鉴别方法，和小编一起看。

用冷镀锌涂层网格法测量附着力时，涂膜的厚度可达120m。根据冷镀锌涂层的厚度，可以选择不同的网格间距，一般涂层小于60m，硬基体间距1mm，软基体间距2mm；涂层厚度为60-120m，软硬基体之间的距离为2mm；涂层厚度大于120m，软硬基材之间的距离为3毫米。

ISO12944认为，附着力需要达到1级才能被认为合格；在GB中，当附着力达到1-2级时，视为合格。画圆法和画格法的区别在于，画圆交点形成的零件面积在增加，评级检查未受损区域的位置，而画格法面积固定，评级采用受损面积比。

化学镀镍层表面形态即析出形态

研究表明，化学镀镍层表面形态即析出形态，是受催化活化处理的影响而变化，因此也就会直接影响焊料的焊接强度。所以，提出使用钯催化活化而不选择镍的析出程序的有效性。 二、实验方法 2.1 镀覆处理工艺条件 首先是对基板选择性析出的评价，覆铜箔层压板上的表面试验图形形成。试验用的PGA(Pin Grid Array)基板(板厚度为0.4mm、导线宽度为100μm、线间距为100μm、导体厚度为9μm)。根据基板表面状态，进行前处理，在65℃碱液中处理1分钟，在室温条件下进行酸活化1分钟。然后采用两种工艺处理方法进行化学镀镍。一种工艺方法，铜导体经催化处理后上面附有催化物钯，再进行化学镀镍，这是原来的工艺方法(工艺过程中含有催化活化一步)；另一种工艺方法，所使用的钯催化活化处理液中含有(0.05g/dm2)和少量络合剂，温度为25℃，处理1分钟然后实施化学镀镍。此镀液采用DMAB为还原剂和稀的化学镀镍溶液，于是镍沉积在铜导体图形上形成均匀的镍层。这是靠自身的催化活化作用沉积镍。此种工艺方法后来称之直接化学镀镍。镍沉积用的镀液为含有六个水的(0.9g/dm2)，DMAB(3.0g/dm2)和少量的添加剂，温度为45℃、实施1分钟的处理。在这个工艺中，化学镀镍层的厚度约5μm。化学镀镍液的组成和操作条件见表1所示。化学镀镍溶液中，使用次亚磷酸钠为还原剂，用***和氨水调节镀液的pH值到5.5。 通过上述试验，将镀镍后的基板，用放大镜来观察基板上铜导体图形间树脂上2.2 焊料球焊接强度测定 焊料球焊接强度的试验基板，基板厚为0.6mm在树脂层上焊盘直径为0.65mm，节距为1.27mm。基板表面焊盘的处理工艺化学镀镍条件与上述2.1规定的工艺条件相同，然后再在酸系化学镀金溶液中镀金厚度为0.05μm。化学镀金溶液(1)钾、柠檬酸钾和EDTA钢，pH值6.0、镀液温度为85℃工艺条件下，镀5分钟。