光亮***镀铜液中的氯离子对镀层有何影响?

光亮***镀铜液中的氯离子对镀层有何影响?答:在光亮酸性镀铜溶液中必须存在少量氯离子才能得到全光亮镀层，其含量一般控制在10～80 毫克/升，如含量过低，镀液整平性能和镀层光亮度均下降，且易产生光亮树枝条纹，严重时镀层粗糙有，甚至烧焦。过高时，镀层光亮度下降和低电流密度区不亮。氯离子可用盐酸或氯化铜溶液的形式加入。因为一般工业用***铜和活性炭中含有少量氯离子，所以新配溶液时，可不必另加氯离子。

按用途分类可分为:防护性镀层:Cu—Ni—Cr、Ni-Fe-

按用途分类可分为：

①防护性镀层：如Zn、Ni、Cd、Sn和Cd-Sn等镀层，作为耐大气及各种腐蚀环境的防腐蚀镀层；

②防护．装饰镀层：如Cu—Ni—Cr、Ni-Fe-Cr复合镀层等，既有装饰性，又有防护性；

③装饰性镀层：如Au、Ag以及Cu．孙仿金镀层、黑铬、黑镍镀层等；

④修复性镀层：如电镀Ni、Cr、Fe层进行修复一些造价颇高的易磨损件或加工超差件；

⑤功能性镀层：如Ag、Au等导电镀层；Ni-Fe、Fe-Co、Ni-Co等导磁镀层；Cr、Pt-Ru等高温镀层；Ag、Cr等反光镀层；黑铬、黑镍等防反光镀层；硬铬、Ni．SiC等耐磨镀层；

真空电镀是一种在高真空中加热和蒸发金属或化合物的方法

真空电镀是一种在高真空中加热和蒸发金属或化合物的方法，通过将蒸发的原子或分子应用于要电镀的物体，在表面上形成金属或化合物的薄膜。在这里，薄膜是指厚度小于1μ的薄膜。工业应用包括装饰、包装纸等，将铝沉积在金属光泽上，作为电气应用，用于电阻和电容器。如果地基不释放气体，它可以使用非金属，而不仅仅是金属。

此外，真空电镀的沉积方法包括PVD（物***相沉积）和CVD法（化学气相沉积）。PVD 使用热和等离子体能量蒸发固体材料，并将其沉积在基板上。 CVD是一种利用热和等离子体等能量的气体，包括薄膜和元素，通过激发和分解在基板表面吸附和形成薄膜。

磷化处理是一种化学反应

磷化处理是一种化学反应，在表面形成一层膜（磷化膜）的一种表面处理工艺。磷化处理工艺主要用在金属表面，目的也是为金属表面提供一层保护膜，让金属与空气隔绝，防止其被腐蚀；还会用于一些产品涂漆之前的打底，有了这层磷化膜能够提高漆层的附着力和防腐蚀能力，提高装饰性让金属表面看起来更漂亮，并且还能够在部分金属冷加工过程中起到润滑的作用。