DIA打磨抛光注意事项。
DIA的研磨和抛光必须尽可能在轻压下进行,尤其是在抛光预硬化钢零件和用细磨膏抛光时。用8000#研磨膏抛光时,通常的载荷为100~200g/cm2,但很难保持这个载荷的精度。为了方便做到这一点,可以在木条上做一个又细又窄的把手,或者把竹条的一部分剪下来,使其更柔软。这有助于控制抛光压力,以确保模具表面压力不会太高。DIA用于打磨抛光时,不仅工作面需要清洁,工人的手也必须非常干净。
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不锈钢弯头和碳钢弯头的主要材料不同。不锈钢弯头可以长时间保持弯头表面不生锈不腐蚀,但正是因为如此,不锈钢弯头的抛光工艺与碳钢弯头不同,所以有什么区别?让我们看看!
1.化学抛光。
化学抛光的主要优点是材料表面的微小凸起部分溶解在化学介质中,而不是凹陷部分,从而可以获得光滑的表面,无需复杂的设备就可以同时抛光复杂形状的工件,并可以有效地同时抛光大量的工件。
2.机械抛光。
机械抛光分为粗抛光和精抛光。在转速为200~300转/分的电动抛光盘上进行粗抛。在粗抛过程中,应适当喷洒厚的氧化铬、氧化铝或氧化镁抛光液,以保持抛光盘湿润。粗抛时,托住样品,沿抛光盘半径方向往复运动,均匀调节压力,避免压力过大。抛光开始时,偶尔会洒抛光液,以后抛光液的压力会逐渐降低。抛光液的浓度会降低,直到微小的磨损痕迹消失。粗糙的抛光样品先用水清洗,然后仔细抛光。粗抛留下的抛光痕迹通过微抛去除,抛光后的表面光亮光滑。精抛所用的抛光机与粗抛设备基本相同,转速为150~200转/分。在抛光过程中,一定要注意区分粗抛光和精抛光,因为两种工艺有一定的区别。
3.电解抛光。
金属离子与工件分离,抛光液中的磷酸在工件表面形成吸附的磷酸盐膜,突出点处粘膜变薄,由于突出点处电流密度大,迅速溶解。随着粘液膜的流动,凹凸面发生变化,粗糙面变得平整,所以电解抛光时要注意抛光液的选择,否则可能会损坏不锈钢弯头。
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根据前工程的砂光番数选择
往往前工程的砂光番数,直接影响抛光作业的布轮、抛光浆或抛光膏的选择,如果选择不当,将会造成不必要的成本浪费,其间的调整与搭配,也非常重要,使用者对于所使用研抛材料的特性及成份,必须了解十分清楚,否则再好的研抛材料,用于不恰当的地方,则无法达到预期的效果。
根据抛光设备的种类选择
自动抛光机及手动抛光机,基本选用布轮的方法截然不同,主要原因是自动抛光机的被抛工件固定于夹具上,而由布轮轴组移入及接触被抛工件,以达抛光之动作,或被抛工作固定于夹具上,经由一输送带进入布轮轴组的侧方或下方与之接触,以达抛光的动作,而手动抛光机,则是布轮轴组固定,由操作人员手持被抛工件与布轮接触,以达抛光的动作,换言之,不同种类的抛光机,其选用布轮的基本形式,可说几乎完全不同。
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