兴之扬蚀刻电视304不锈钢网小编来给大家讲解什么是干法蚀刻：

电浆干法蚀刻主要应用于集成电路制程中线路图案的定义，通常需搭配光阻的使用及微影技术，其中包括了1)氮化硅(Nitride)蚀刻：应用于定义主动区；2)复晶硅化物/复晶硅(Polycide/Poly)蚀刻：应用于定义闸极宽度/长度；3)复晶硅(Poly)蚀刻：应用于定义复晶硅电容及负载用之复晶硅；4)间隙壁(Spacer)蚀刻：应用于定义LDD宽度；5)接触窗(Contact)及引洞(Via)蚀刻：应用于定义接触窗及引洞之尺寸大小；6)钨回蚀刻(EtchBack)：应用于钨栓塞(W-Plug)之形成；因此纯化学反应性蚀刻拥有类似于湿式蚀刻的优点及缺点，即高选择比及等向性蚀刻。7)涂布玻璃(SOG)回蚀刻：应用于平坦化制程；8)金属蚀刻：应用于定义金属线宽及线长；9)接脚(BondingPad)蚀刻等。

影响干法蚀刻特性好坏的因素包括了：1)干法蚀刻系统的型态；2)干法蚀刻的参数；3)前制程相关参数，如光阻、待蚀刻薄膜之沉积参数条件、待蚀刻薄膜下层薄膜的型态及表面的平整度等。

兴之扬316不锈钢网片小编给大家介绍什么是二氧化硅的湿式蚀刻：

在微电子组件制作应用中，二氧化硅的湿式蚀刻通常采用HF溶液加以进行(5)。而二氧化硅可与室温的HF溶液进行反应，但却不会蚀刻硅基材及复晶硅。反应式如下：SiO2+6HF=H2+SiF6+2H2O

由于HF对二氧化硅的蚀刻速率相当高，在制程上很难控制，因此在实际应用上都是使用稀释后的HF溶液，或是添加NH4F作为缓冲剂的混合液，来进行二氧化硅的蚀刻。NH4F的加入可避免氟化物离子的消耗，以保持稳定的蚀刻速率。而无添加缓冲剂HF蚀刻溶液常造成光阻的剥离。典型的缓冲氧化硅蚀刻液(BOE:BufferOxideEtcher)(体积比6:1之NH4F(40%)与HF(49%))对于高温成长氧化层的蚀刻速率约为1000?/min。当氨水中不含会搅乱系统平衡性的水时，氨气在pH值的控制下会工作得很好，但使用时是相当***的。

在半导体制程中，二氧化硅的形成方式可分为热氧化及化学气相沉积等方式；而所采用的二氧化硅除了纯二氧化硅外，尚有含有杂质的二氧化硅如BPSG等。然而由于这些以不同方式成长或不同成份的二氧化硅，其组成或是结构并不完全相同，因此HF溶液对于这些二氧化硅的蚀刻速率也会不同。但一般而言，高温热成长的氧化层较以化学气相沉积方式之氧化层蚀刻速率为慢，因其组成结构较为致密。0075mm的精度，满足不同产品的组装要求，材料越薄，精度控制相对越高。

不锈钢微孔网片用什么工艺加工

不锈钢微孔网片广泛应用于工业/化工、家电等过滤系统中，这些产品主要特性体现在网孔孔径较小（0.03-0.1mm不等），网孔密集，因此冲压，激光等工艺加工起来有一定的局限性。那么不锈钢微孔网用什么工艺加工好呢？兴之扬建议针对这些产品的需求，可以采用蚀刻工艺进行加工。蚀刻加工可以解决大批量，微网孔，高密度的加工问题。所谓内在性，是指一个公益流程必须要有其内在的特定内容，也可以说是内容的真实性。

蚀刻工艺一般是通过制作产品对应的网孔菲林片图形，然后进行***转移到不锈钢表面，显影后在不锈钢表面形成可蚀刻与保护的图案，然后进入蚀刻机中进行加工。蚀刻工艺加工的不锈钢微孔网不会材料材质性能，不会对加工材料表面产生压力导致变形。因此对于微孔网来说，蚀刻工艺是适合的方法。在蚀刻不锈钢中增加镍的一个主要原因就是形成奥氏体晶体结构，从而改善诸如可塑性、可焊接性和韧性等不锈钢的属性，所以镍被称为奥氏体形成元素。