硼酸在电镀镍中的作用：现代电镀研究和电镀生产实践表明，硼酸在光亮镀镍中不单纯起稳定PH值的缓冲作用，而且能扩大阴极光亮电流密度范围，以使用较高的电流密度，并使镀层结晶细致，不易烧焦，还能使镀层的延展性良好和改善镀层和基体金属结合力的作用。另外，由于硼酸的离解作用，有利于抑止镍的水解，使电沉积反应的顺利进行。

镀镍层有一定的电阻率，已研究出的镍—磷镀层，其阻值大，温度系数小，性能优越。

       有的***已经建立***：电子设备必须进行屏蔽以防止电磁和射频干扰。电子设备的塑料外壳上镀铜，然后化学镀镍，这样的双金属结构覆层，被公认为是有效的屏蔽方式之一。

      化学镀镍是计算机薄膜硬磁盘制造过程中的关键步骤之一，它是高技术化学镀镍的典型代表，占有相当重要的市场份额。

铁化学沉镍加工

在很多材料和零部件的功能，如耐蚀、耐磨、抗高温氧化性等，化学镀镍都要比电镀镍好。

 均镀能力好、镀层的厚度均匀，是化学镀镍的一大特点，也是应用广泛的原因之一，化学镀镍不像电镀镍一样会因为电流分布不均匀而导致镀层的厚度不均匀。化学镀镍过程中，只要零件表面和镀液有接触，且镀液中消耗的成份能及时得到补充，镀件部位的镀层厚度就基本都相同，即使凹槽、缝隙、盲孔也是如此。铁化学沉镍加工

化学镀镍过后的工件，在400℃以下经不同保温时间处理后，可得到不同的耐蚀性和耐磨性。因此，化学镀镍特别适用于形状复杂、表面要求耐磨性和耐蚀性较高的零部件。