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因此也不具有很高的能量势垒,以是化学镀件前处置需求得到比护睛罩防雾处理件越发清洁、愈加具有平均活性的内中。因而,化学镀镀前处置工作尤为事多,它事多影响着镀液听命、镀层拆散力和镀层风致。
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两个电子枪源位于基板两边,周围是环形罩并被挡板覆盖。离子源位于中间,光控窗口在离子源的前方。图19.13示出真空室的顶部,真空室里有含6个圆形夹具的行星系统。夹具用于放置被镀膜的光学元件。
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