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刻蚀设备刻蚀是用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要材料的过程。刻蚀的基本目标是在涂胶的硅片上正确地复付制掩膜图形。现代化的干法刻蚀设备包括复杂的机械、电气和真空系统,同时配有自动化的刻蚀终点检测和控制装置。刻蚀应用工况复杂,清洁性差,充入特种气体种类繁多,因此需要特殊处理的干泵和磁悬浮分子泵。需要维修的真空泵,如果客户方没有真空泵暂用,我司可以提前寄出备用泵给客户方,以保证不会影响正常的生产,待真空泵维修好,经检测试用合格后,再把备用泵退回我司。 Varian涡轮分子泵维修
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