相对湿度在35%－40%之间能够作为一个令人满意的折中，半导体无尘车间、洁净室一般都运用额外的操控装置以约束静电荷的堆集。许多化学反响的速度，包含腐蚀的进程，将跟着相对湿度的zeng高而加速。一切暴露在无尘车间、洁净室周围空气中的外表都很快地被覆盖上至少一层单分子层的水。当这些外表是由能够与水反响的薄金属涂层组成时，高湿度能够使反响加速。幸运的是，一些金属，例如铝，能够与水构成一层维护形的氧化物，并阻止进一步的氧化反响；但另一种情况是，例如氧化铜，是不具有维护才能的，因而，在高湿度的环境中，铜制外表更容易遭到腐蚀。

净化工程位置应该如何选择？一、应在大气含尘浓度较低，自然环境较好的区域。二、应远离铁路、码头、飞机场、交通要道以及散发大量粉尘和***气体的工厂、贮仓、堆场等有严重空气污染、振动或噪声干扰的区域。如不能远离严重空气污染源时，则应位于其频率风向上风侧，或全年小频率风向下风侧。三、应布置在厂区内环境清洁、ren流货流不穿越或少穿越的地段。

实验室里面的仪器设备该如何去除灰尘？清洗仪器上的尘垢，清洗仪器在使用中会沾上油腻、胶液、汗渍等尘垢，在储藏保管不小心时会发生锈蚀、霉斑，这些尘垢对仪器的寿数、性能会发生极其不良的影响。清洗的意图就在于除掉仪器上的尘垢。一般仪器的清洗有两类办法，一是机械清洗办法，即用铲、刮、刷等办法清洗；二是化学清洗办法，即用各种化学去污溶剂清洗。详细的清洗办法要依尘垢附着外表的情况以及尘垢的性质决议。

无尘室内该如何防止微粒子污染呢？应遵守下列基本原则：排除/除去，在无法避免大量微粒子发生的机台中，为了不让无尘室内产生微粒子，因此直接做对外排气的动作，即所谓的局部排气。针对排气的对策如下：由于导入同量的外气是必要的，但会伴随大量的能源消耗。所以无法说是肯定理想的对策。因此尽可能地在压缩排气量的同时，不仅仅是向无尘室外排气，而应采用将除去粒子后的空气再回流到无尘室内之对策。