等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。某种程度来讲，等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应，反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等离子体刻蚀工艺实际上便是一种反应性等离子工艺。近期的发展是在反应室的内部安装成搁架形式，这种设计的是富有弹性的，用户可以移去架子来配置合适的等离子体的蚀刻方法：反应性等离子体（RIE），顺流等离子体（downstream），直接等离子体（direction pla***a）。

蚀刻机和光刻机的区别

这俩设备非常简单的表述便是光刻机把原理图投射到遮盖有光刻胶的硅片上边，刻蚀机再把刚刚画了原理图的硅片上的不必要原理图浸蚀掉，那样看上去好像没有什么难的，可是有一个品牌形象的形容，每一块集成ic上边的电源电路构造变大成千上万倍看来比全部北京市都繁杂，这就是这光刻和蚀刻加工的难度系数。 光刻的全过程就是目前制做好的硅圆表面涂上一层光刻胶(一种能够被光浸蚀的胶状***学物质)，下面根据光源(加工工艺难度系数紫外线＜深紫外线＜极紫外线)通过掩膜照射硅圆表面(相近投射)，由于光刻胶的遮盖，照射的一部分被浸蚀掉，沒有阳光照射的一部分被留下，这一部分就是必须 的电源电路构造。 蚀刻加工分成二种，一种是干刻，一种是湿刻(现阶段流行)，说白了，湿刻便是全过程中存水添加，将上边历经光刻的圆晶与特殊的化学溶液反映，除掉不用的一部分，剩余的就是电源电路构造了，干刻现阶段都还没完成商业服务批量生产，其基本原理是根据等离子技术替代化学溶液，除去不用的硅圆一部分。

蚀刻机 标志行业创新，标志的技术进展，创建了机械技术的新发展。金属蚀刻机与人们在不断的变化，融入到人们的生活喘不过气来的生活，成为相互依存的和共同的发展现状。人们会发现，涵盖范围广泛的金属腐蚀，包括五金饰品、 机械、 五金配件、 化工等，真的不知道跳，原始的金属机器使我们的生活变得如此丰富多彩。在时代的发展，改变了金属蚀刻机。在机械设备行业，在炎热的追求新技术一直受到人们的青睐，现在是金属腐蚀的科学和技术进步的结晶。新金属腐蚀用多功能机器是如此受欢迎，如何可以不遵循人的偏好和科学和技术的步伐。新技术取代旧技术，而不是手动操作，机器生产操作和不断更新，金属蚀刻机是在市场卖的如火如荼，呈现和平的局面。

平面图弹是运用于高精密电子器件通信.学.电子光学.地质勘探及其电动机等领域的高精密零部件，也称平面图弹簧。一般选用薄厚较薄的金属原材料开展生产加工，有不锈钢板和合金铜的材料。由于生产加工原材料较薄，非常容易形变，因而一般会挑选蚀刻机生产加工开展制做。选用金属有机化学蚀刻开展生产加工的平面图弹，高精度，不会改变。金属蚀刻中，蚀刻液的浓度值.溫度.纯净度都是会危害零件蚀刻加工的精密度，为了更好地获得达标的，优良的蚀刻加工实际效果与生产制造合格率，提议加工厂家每月少开展一次金属蚀刻液清槽。

实际金属蚀刻液清槽工艺流程如下所示：

1.将蚀刻加工槽内的金属蚀刻液抽出来过虑储放于密封器皿内。

2.槽内加水﹐并运行蚀刻加工马达循环系统约10min。

3.将槽内的液态排出掉。

4.加水再添加HCl10%水溶液﹐运行蚀刻加工马达循环系统约30min。

5.排出来四流程的液态。

6.加水并运行蚀刻加工马达循环系统约10min。

7.将槽液排出掉。

8.加水加上3-5%或子液中合﹐并运行蚀刻加工马达循环系统约30min。

9.将槽液排出掉。

10.加水并运行蚀刻加工马达循环系统约10min。

11.将槽液排出掉。

12.添加新的金属蚀刻液。