目前市场主流常规水平式蚀刻机，在板子双面同时喷淋蚀刻过程中，显然下表面蚀刻速度与蚀刻均匀性要比上表面好，上表面的板四周蚀刻速度快于中间部位。这主要由于通常的喷淋蚀刻过程中板子上表面会形成蚀刻液的“水池”，严重影响蚀刻均匀性与引起侧蚀。

   真空蚀刻机的一组模块结构，内设有加装智能吸水系统套件，吸取板面走蚀刻液，不使蚀刻液滞留在板面。真空吸液盘固定在桥板上离基板调为的距离位置。    如0.2mm厚以下的板子精度达到+-0.01mm，相比常规蚀刻机高出一倍，产能相比常规蚀刻机高出三分之一，同样也提。使用该真空技术给企业改善精工制造也带来强大的核心竞争力！

简易而言，说白了的蚀刻机，便是在芯片加工的全过程中所务必应用的一种机器设备，这类机器设备的***就好像是手工雕刻中的雕刻刀一样，用诸多方式把一块详细的金属板中大家不用的一部分给去祛除，剩余的便是大家必须的电源电路了。

集成ic蚀刻加工的全过程：金属板的表面上面有一部分沒有遮盖光刻技术，而这一部分金属材料在蚀刻机的***下被去除开，随后金属板（换句话说圆晶）的表面就变成了大家要想的样子。

蚀刻机的目地便是持续把金属板表面大家不用的一部分给挖去。

为了更好地做到以上目地，初是应用的化学物质来挖去这种化学物质，终究化学物质能够 跟金属板中的原材料产生反映，十分迅速便捷，可是在其中也造成了一个非常大的难题：液态的腐蚀是向每个方位的，不太好操纵。

打个品牌形象的比如，你用一块木板可以遮挡水灾吗？回答是不可以，由于水就会绕开这方面木板。而用化学物质腐蚀金属表面有很多的缺点。下边这幅图就很好的表明了这类难题，有机化学液态绕开了遮盖圆晶表面的光刻技术，腐蚀了大家不愿腐蚀的一部分。如果我们规定电源电路十分细，那麼这类不必要的腐蚀毫无疑问会危害电源电路的特性。这就如同一根柱头，你一直在两侧挖去一点儿，假如这一根柱头太粗，那麼没有什么很大的关联，假如这一根柱头很细，那麼可能就需要扔掉了——这也是为什么化学物质蚀刻加工的方式不适感用以高些制造的集成ic。

因此 大家必须一种不容易转弯的化学物质来腐蚀金属表面，这类物品是什么呢？回答是“光”。仅是不容易转弯的，因此 能够 挺直地腐蚀金属表面。当然，这儿的“光”并不是确实光，只是一种等离子技术，根据等离子技术来对金属表面开展蚀刻加工。为何低温等离子能够 腐蚀金属表面、如何造成低温等离子的，这一不重要，大家只必须了解低温等离子蚀刻机更强、能够 用于生产制造更高精密的集成ic就可以了。

侧蚀产生突沿。通常印制板在蚀刻液中的时间越长，侧蚀越严重。侧蚀严重影响印制导线的精度，严重侧蚀将使制作精细导线成为不可能。当侧蚀和突沿降低时，蚀刻系数就升高，高的蚀刻系数表示有保持细导线的能力，使蚀刻后的导线接近原图尺寸。电镀蚀刻抗蚀剂无论是锡－铅合金，锡，锡－镍合金或镍，突沿过度都会造成导线短路。因为突沿容易断裂下来，在导线的两点之间形成电的桥接。

影响侧蚀的因素很多，下面概述几点：

1)蚀刻方式：浸泡和鼓泡式蚀刻会造成较大的侧蚀，泼溅和喷淋式蚀刻侧蚀较小，尤以喷淋蚀刻。

2)蚀刻液的种类：不同的蚀刻液化学组分不同，其蚀刻速率就不同，蚀刻系数也不同。例如：酸性氯化铜蚀刻液的蚀刻系数通常为3，碱性氯化铜蚀刻液的蚀刻系数可达到4。近来的研究表明，以为基础的蚀刻系统可以做到几乎没有侧蚀，达到蚀刻的线条侧壁接近垂直。这种蚀刻系统正有待于开发。