国内生产刻蚀机水平高的企业为中微半导体设备（上海）有限公司（这家同样是有国资背景的企业，前两大股东也是国有企业，所以有人说我国光刻机没发展起来是因为国企的原因，这是不对的，中微半导体也可以说是国企，但是刻蚀机的技术水平是世界水平的。国内刻蚀机的发展离不开尹志尧为代表的几十位海归技术。尹志尧曾经担任应用材料的公司副总裁（应用材料是半导体设备厂商老大），参与***几代等离子体刻蚀设备的开发，在美国工作时就持有86项。2004年回来之后，***牵头设立了中微半导体公司，尹志尧等人重新投入研发刻蚀机，仅仅用了3年的时间就做出了世界的刻蚀机，为此美国人无法接受，还起诉了中微半导体侵权，但是终的验证结果是没有任何的侵权。（这才是中微半导体比上海微电子发展快的原因，毕竟上海微电子的没有人才在荷兰的A***L工作过，也许正是因为这件事，所以美国现在禁止A***L招聘中国的员工）。我国的刻蚀机技术位于，中微半导体的介质刻蚀机赢进入台积电7nm、10nm的生产线，中微半导体的刻蚀机制造工艺达到了5nm，已经通过了台积电的验证

在次蚀刻机行业组成的生产效率低、 缺乏资金，慢慢导致业务发展停滞不前。但人很坚强，不远。试着去学习生产技术和***的生产技术，设备升级的外国精英厂家则是一步一步走，把开发新技术产品。蚀刻机在中国几十年，许多制造商下滑的时期。跟着时代的潮流走在前面，努力实现可持续的、 长期的、 稳定的发展模式。

当今社会，竞争激烈，人才，山比山情况使人们更加意识到的生存压力。也是真正之间所有各界以及蚀刻机行业，竞争是的词，也是业界的热门话题。生存是需要发展，创新的新产品，以保持在位置来赢得市场的关键。

蚀刻机产业发展的***仍然必须取决于支持大型制造商，带领，相信蚀刻机前途是光明的。创新的时候，这是一种的血液。***研究与开发的新产品、 创新和的生产工艺是的。符合现代社会的发展，要求生产厂家跟上步伐，提高生产率的他们的技术需求。结合国外***的生产技术经验，找到合适的机会。

蚀刻机生产过程中基本程之一，简易的讲便是底材合金被抗蚀层遮盖，沒有被抗蚀层防护的合金与蚀刻加工剂产生反映，进而被咬蚀掉，产生图形设计的全过程。自然，蚀刻加工基本原理用两三句就可以毫不费力地叙述，但事实上蚀刻加工技术性的完成或是颇具备趣味性，特别是在生产制造细微规格时，不大的宽尺寸公差规定，不允许蚀刻加工全过程存有一切错漏，因而蚀刻加工結果要恰如其分，不可以变大，也不可以过蚀。进一步表述蚀刻加工的全过程，蚀刻加工生产商更乐意应用程度的蚀刻加工线开展生产制造，以完成多方面上的制造自动化技术，使产品成本减少，可是水准蚀刻加工也不是十全十美，没法解决的“蓄水池效用”使板的上表层和下表层形成差异的蚀刻加工实际效果，板外的蚀刻加工速度比板中心的蚀刻加工速度快，有时，这类状况会使表面上的蚀刻加工結果造成非常大的差别。换句话说，“蓄水池效用”会使板旁边过蚀比板中心的路线过蚀大，乃至用心做好的调整 ，来赔偿不一样的蚀刻加工速度也会产生不成功，由于要得到极细的设备务必十分细致的操纵蚀刻加工尺寸公差。