***近光刻机和蚀刻机一直都是当前***热的话题，可以说光刻机是芯片制造的魂，蚀刻机是芯片制造的魄，要想制造的芯片，这两个东西都必须。    这俩机器***简单的解释就是光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面，刻蚀机再把刚才画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀掉，这样看起来似乎没什么难的，但是有一个形象的比喻，每一块芯片上面的电路结构放大无数倍来看比整个北京都复杂，这就是这光刻和蚀刻的难度。    光刻的过程就是现在制作好的硅圆表面涂上一层光刻胶（一种可以被光腐蚀的胶状物质），接下来通过光线（工艺难度紫外光＜深紫外光＜极紫外光）透过掩膜照射到硅圆表面（类似投影），因为光刻胶的覆盖，照射到的部分被腐蚀掉，没有光照的部分被留下来，这部分便是需要的电路结构。    蚀刻分为两种，一种是干刻，一种是湿刻（目前主流），顾名思义，湿刻就是过程中有水加入，将上面经过光刻的晶圆与特定的化学溶液反应，去掉不需要的部分，剩下的便是电路结构了，干刻目前还没有实现商业量产，其原理是通过等离子体代替化学溶液，去除不需要的硅圆部分。






腐蚀机为人工气候环境“三防”（湿热、盐雾、霉菌）试验设备之一，是研究机械、工业、轻工电子、仪表等行业各种环境适应性和可靠性的一种重要试验设备。    传统的化学蚀刻机分为泼溅式腐蚀机、水平蚀刻机，然而在实际生产过程中，由于各种原因，蚀刻精度往往很难控制，容易产生测腐蚀现象；华谊智能科技通过市场的反馈和多年的蚀刻设备制造经验，研发出一款反喷淋式转盘蚀刻机（转盘大小可定做），将工件夹在转盘上，***摇摆喷架由下往上高压喷淋，同时转盘也自转，这样就避免了蚀刻液在工件表面的残留，提高了蚀刻精度。    同时转盘蚀刻机标配：4KW立式耐酸泵、全压过滤器、钛合金加热管、钛合金水冷管、温度显示自动加热系统等等。

视网***区之外的电磁波，包括紫外线和长波红外线(Far infrared)，则可能使眼睛的前方部分受伤。有些波段会伤害水晶体(Lens)，295nm至320nm以及1μm至2μm的辐射尤其严重。波段相当广的紫外线，以及波长大于1400nm的红外线，可能伤害膜。只伤及膜表皮时，一两天内就能修复，而使视力完全***。如果膜的较深层部位发生显著伤害，会造成膜瘢痕(Corneal scar)，而导致失明。

红外线的***穿透深度(Penetration depth)方面，1,440 nm(如某些半导体激光)、1,540 nm(如铒-玻璃激光)、2,100 nm(如钬-雅克激光)均大于10,600 nm(二氧化碳激光)，所以者造成性伤害的***性比较高[1]。308 nm的氯化氙(XeCl)激光束，会使水晶体立即产生(Cataract)，所以还具有额外的***性。(Argon)、离子(Krypton)、KTP倍频(Double frequency)、铜蒸汽(Copper vapor)、金蒸汽(Gold vapor)、氦(Heliun-Neon)、钕-雅克(Nd:YAG)等激光，对于视网都具有潜在***性。铒-雅克(Er:YAG)、铒-氟化钇锂(Er:YLF)、钬-雅克(Ho:YAG)、(HF)、二氧化碳(CO2)、(CO)等激光，则对膜有***性。