蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液，经由化学反应以达到蚀刻的目的，化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。

光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准***机，***系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准***、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时""到硅片上的过程。

光栅刻画:光学中光栅通常的作用是色散。光栅刻划是制作光栅的方法之一。

蚀刻机电解型的，想来领域内的人群应当不生疏，较为常见。五金蚀刻设备厂家也按照销售市场客户满意度，也是有几种中、大中型的电解蚀刻机。经济实惠、易实际操作、。

蚀刻机电解型的机理是运用金属在以饮用水或水为蚀刻行为主体的药液中产生阳极氧化融解（电解的效果下）将金属开展蚀刻，接入蚀刻开关电源，进而做到蚀刻的目地。普遍的电解蚀刻机全是手动式自喷式的，而且全是以水为蚀刻水溶液，输出功率有尺寸二种，大家便是这类。

它的优势：，但仅有蚀刻一个流程是不可以的，别的工艺流程也务必，合适试验生产制造、凹字小总面积蚀刻。关键用作科学研究试验机，或是简易的在金属上蚀刻标识，也称之为电激光打标。

它的缺陷：蚀刻面不匀称，大规模浸蚀速度比较慢，不可以用以批量生产，也无法做凸字大规模蚀刻，不可以用作标识牌的批量生产生产加工。因为电解蚀刻是在金属导电性的情形下产生蚀刻的，那麼咱们的商品在蚀刻下来有一切的深层时侧边也将被蚀刻的，那样许多细致图案设计，细致文本将被蚀刻”烂“掉。

五金蚀刻设备厂家提议大伙儿购买时依据本身应用要求来挑选适合的

蚀刻机的冷冻蚀刻技术是在冷冻技术的基本上发展趋势起來的更繁杂的复型技术。假如将冷冻的样品的溫度略微上升，让样品中的冰在真空泵中提升，而表面层浮雕图案出细胞质的超微结构。当很多的干冰升华以后，对浮雕图案表层开展铂一碳复型，并在腐蚀水溶液中去除生物技术，复型经重蒸水数次清理后，捞在载在网上作透射电镜观查。

技术优势：

蚀刻机的冷冻蚀刻技术是以50时代逐渐发展趋势起來的一种将和复型紧密结合的制取透射电镜样品技术，因此亦称冷冻或冷冻复型。

它的优势取决于：

①样品根据冷冻，可让其细微构造贴近于活物情况；

②样品经冷冻蚀刻后，可以观查到不一样面的细微构造，从而可科学研究体细胞内的膜性构造及含有物构造；

③冷冻蚀刻的样品，经铂、碳镀洛而制取的复型膜，具备较强的层次感且能承受离子束负电子和长期性储存。

技术缺陷：

它的缺陷是：冷冻也可导致样品的人为因素损害；面多造成在样品构造敏感的位置，没法有到达站挑选。

碱性蚀刻液一般适用于多层印制板的外层电路图形制作，这种蚀刻方法在线路板制作中应用非常广泛，特别是图形电镀，这是较好的蚀刻方法之一。同时碱性蚀刻速度快，侧蚀刻小，溶铜量大，蚀刻液可以再生连续使用。

碱性CuCl2蚀刻液主要是由CuCl2和NH3-H2O组成，在CuCl2溶液中加入NH3-H2O会发生如下络合反应：CuCl2+4NH3-H2O＝[Cu(NH3)4]Cl2+4H2O，在蚀刻机药箱内，铜被[Cu(NH3)4]2+络离子氧化成Cu+。其氧化反应如下：[Cu(NH3)4]Cl2+Cu＝2[Cu(NH3)2]Cl。生成的[Cu(NH3)2]+为Cu+的络离子，不具有氧化能力，在有过量NH3-H2O和Cl-存在的前提下，能很快被空气中的氧气所氧化，生产具有蚀刻能力的[Cu(NH3)4]2+。其络离子再生反应如下：

2[Cu(NH3)2]Cl+2NH4Cl+2NH3-H2O+1/2O2＝2[Cu(NH3)4]Cl2+2H2O。

从上面的化学方程式可以看出，在蚀刻机工作过程中，每腐蚀1mol铜需要消耗2mol NH3-H2O和2mol NH4Cl。因此在腐蚀机蚀刻过程中，随着铜的溶解，应不断补充NH3-H2O和NH4Cl。