光刻技术，重头戏是物理技术，光刻的前道工序如涂胶，后道如显影，都是化学技术，对机器要求不算高。唯独***工序才是难的，其中难又在于光刻机，也就是一只巨型单反相机，其光源和镜头，还有控制技术估计已经是人类的极限了，巨难做。刻蚀说得形象点就是沿着***图形刻槽，化学成分比较大，并不算十分关键的设备，我朝的刻蚀机技术还是很不错的。

激光蚀刻机

相对于传统的湿法蚀刻，激光蚀刻不直接接触材料表面、CAD图纸直写，无须掩模，因此可靠性更强，良率更高，一致性更好，蚀刻线宽大小可调，图形任意，该技术已经广泛应用于触摸屏，LCD，PDP，电子书，OLED等工业生产。而在其他应用领域，尤其是一些更高要求的多层次材料的选择性蚀刻，是其他传统方法无法做到的。

设备适用于PET薄膜和Glass玻璃基底上的导电材料进行高速激光刻蚀、剥离、蚀刻、刻线、划片、材料去除、构造。

适用材料

玻璃/薄膜表面氧化铟锡（ITO）、FTO、银浆（Ag）、碳纳米管（CNT）、石墨烯、纳米银、钼铝钼、铜、高分子导电膜、铝薄膜、PERC、钙钛矿电池、TCO、碳粉、氧化锆、氧化钛、氧化锌、金等涂层材料的超细线宽激光蚀刻。可直接对白玻璃激光刻蚀、划线，线宽小于10微米。

每片的厚度大约便是10纳。米，现在国际前进的光刻机是荷兰的AL公司。小到，10纳米。台积电买的都是它的光刻机，AL公司实践上是美，国、荷兰、德国等多个技能协作的效果，由于这方面的，研讨难度太大。单个完毕不了，除了AL，国际上只需，咱们还在光刻机上尽力研制，咱们是遭到技能禁运的，不能买他进的产品，国内，上海量产的是90纳米的光刻机，技能上有距离。2017年，长。春光机所“极紫外光”技能打破。估计能抵达22-32纳，技能距离缩小了，我信任，不久的将来，咱们的科技人员一定能研制出生，界的光刻机。

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