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作者:锦城镀膜2020/9/24 12:37:11






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真空镀膜的方法很多,计有:

阴极溅射镀:将需镀膜的基体放在阴极对面,把惰性气体通入已抽空的室内,保持压强约1.33~13.3Pa,然后将阴极接上2000V的直流电源,便激发辉光放电,带正电的y离子撞击阴极,使其射出原子,溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。

化学气相沉积:通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物,获得沉积薄膜的过程。


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真空蒸发镀膜法就是在1.3× 10-2~ 1.3× 103pa(104~10-5Torr)的真空中以电阻加热镀膜材料,使它在极短时间内蒸发,蒸发了的镀膜材料分子沉积在基材表面上形成镀膜层。真空镀膜室是使镀膜材料蒸发的蒸发源,还有支承基材的工作架或卷绕装置都是真空蒸发镀膜设备的主要部分。镀膜室的真空度、镀膜材料的蒸发速率、蒸发距离和蒸发源的间距,以及基材表面状态和温度等都是影响镀膜层质量的因素。1~1ev),膜层附着力差、容易脱膜,薄膜堆栈密度不高、致密性差,膜层表面粗糙,折射率降低)。



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