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作者:锦城镀膜2020/9/5 21:18:08






镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:

离子轰击:指利用高能高密度的金属离子流和ya离子流对工件进行离子轰击清洗,能有效去除工件表面的氧化物;但需注意工件温升过热退火和轰出表面缺陷。

本底真空度: 本底真空度越高炉内杂气量(包括水气)越少,这保证镀膜时反应气体的纯度,从而保证膜层颜色的纯正和光泽鲜亮。一般本底真空应该进入5-7*10-3

弧靶电流:弧靶电流越大,靶材蒸发量越大,靶面温度越高,冷却越差,弧靶产生的液滴大颗粒越多,膜层外观越差,膜层中的缺陷越多。

本底漏率:本底漏率是指真空室在未加入气体单位之前本身的单位漏率,漏率越大,进入炉内的杂气就越多,不管真空度多高,这会严重影响镀膜过程中炉内气氛的纯度和工件表面的洁净度,会***膜层的结合力和膜层颜色的纯度。


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光学薄膜有改变电磁波的路径的特性■光学薄膜很薄时就会产生干涉,当光学薄膜很厚时就产生不了干涉当我们把很薄的膜组合起来就有很多新的特性产生。

参数:

E值:辐射率。辐射率是指透过玻璃的远红外线与入射远红外线之比。辐射率越小,通过膜层反射回去的热量越多,隔热效果越好。(E=0.0129R-6.75R2)


镀膜玻璃的特点

1。热反射玻璃的特点:

通过镀不同薄膜,控制对太阳直接辐射的反射、透过和吸收,达到调节热量传递的目的。热反射镀膜玻璃具有各种各样的颜色,热反射玻璃有以下特点:

1能有效控制太阳直接辐射能的入射量。在夏季白天太阳直接照射时,与普通透明玻璃相比,可将向室内传递的太阳辐射热减少15%--70%;

2丰富多采的反射色调和佳的装饰效果;

3良好的遮避作用;

4能减弱紫外光的透过。



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