禅城房车灯杯加工信息推荐 佛山市锦城镀膜
作者:锦城镀膜2020/8/28 10:50:20






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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 :

靶功率;磁控溅射本身粒子初始动能比较小,离化率低,电源功率越大,溅射出的粒子的初始能量越大,靶材溅射量也越大,沉积速率越快,膜层容易上厚度和硬度,同时工件温升也大,过高的功率会使沉积速率太快,粒子来不及表面迁移和扩散,易形成阴影效应,膜层会比较疏松,应力较大。物理l气相沉积(真空镀膜)基本方法:从被沉积物质的气化方式看,真空蒸镀为电阻加热、电子束加热、感应加热、激光加热等。


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镀膜时间:膜层厚度随镀膜时间的增加而增加,但不是线形增加,当厚度达到一定的时候,增加速度会变慢后基本停止,而且镀膜时间越长膜层应力越大.外观越差。

送气方式和气体流量:采用从少到多逐步增加气体流量的方式加气使膜层从金属逐渐过渡到化合物是很好的一种加气方式,如做黑膜这样还可以延缓靶,使颜色做得更深。

弧靶电流:弧靶电流越大,靶材蒸发量越大,靶面温度越高,冷却越差,弧靶产生的液滴大颗粒越多,膜层外观越差,膜层中的缺陷越多。

本底漏率:本底漏率是指真空室在未加入气体单位之前本身的单位漏率,漏率越大,进入炉内的杂气就越多,不管真空度多高,这会严重影响镀膜过程中炉内气氛的纯度和工件表面的洁净度,会***膜层的结合力和膜层颜色的纯度。

常见的溅射有两种:不反应溅射和反应溅射。不反应溅射指溅射气体和镀膜材料之间不发生化学反应。因此不反应溅射所使用的气体为惰性气体,一般使用y气(Ar),称为工作气体。不反应溅射一般都用在镀金属膜层上,导电性能越好的材料,溅射速率越高。



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