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真空镀膜之多弧离子镀 ：

多弧离子镀又称电弧离子镀或阴极离子镀是以镀膜材料为阴极,阳极和真空室相连,阴极和阳极分别接到低压大电流直流电源的负极和正极。蒸镀时由于放电,在阴极表面上出现明亮的弧斑, 从而使阴极材料蒸发并电离, 形成金属等离子体。引弧电极与阴极靶表面接触和离开的瞬间,阴极和阳极之间形成稳定的自持弧光放电。6）当原子数超过某一临界值时就变为稳定核，再不断吸附其他扩散原子而逐步长大，***后与邻近稳定核合并进而变成连续膜。

离子镀工艺则有所不同，虽然也是在真空罩内进行的，但这时镀膜过程是以电荷传递的形式来实现的。也就是说，蒸发料的粒子作为带正电荷的高能离子在高压阴极（即工件）的吸引下，以很高的速度注入到工件表面。相当于一个从枪g中射出的高速弹头，可以穿入靶体很深，在工件上形成一种附着牢固的扩散镀层。包括欧姆接触的A1、Cu、Au、W、Ti等金属电极薄膜及可用于栅绝缘层或扩散势垒层的TiN、Ta205、Ti0、A1203、Zr02、A1N等介质薄膜沉积。

PLD缺点：1、在镀膜过程中，薄膜会被沉积在薄膜上的等离子本管中产生的微粒、气态原子和分子降低质量，采取一定的措施后也

不能完全消除.2、在控制掺杂、生长平滑的多层膜等方面PLD生长部比较困难，因此进一步提高薄膜的质量会比较困难.

镀膜基片

镀膜基片有：浮法原片、切磨玻璃、钢化玻璃、彩釉玻璃、夹层玻璃等。镀膜前基片必须用纯净水清洗，去除基片表面的灰尘、污垢、油腻等杂质，因为表面的杂质将会影响膜层的附着能力，或者影响镀膜玻璃的外观质量。如果基片表面存在胶印、笔印等不能清洗掉的杂质，在清洗之前必须用酒精将杂质擦去。光学薄膜应用反应磁控溅射技术已有多年，中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜（如增透膜）、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。