LED灯罩镀膜-LED灯罩镀膜加工-锦城镀膜(推荐商家)
作者:锦城镀膜2020/3/24 22:55:01

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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 :占空比:占空比是指脉冲偏压的通断时间比,占空比越大,同一个周期时间内偏压输出时间越长,增大占空比可以提高离子轰击的能量,有利于提高膜基结合力和膜层致密性和膜层的硬度,但会提高工件的温升;减小占空比有利于***打火损伤和降低工件表面的温度、辉光放电清洗和离子轰击的效果。







镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:

金属过渡层:过渡层能有效的减小膜-基或不同镀层间因材料热膨胀系数等物理性能不同而形成的应力,提高结合力,LED灯罩镀膜,但是金属过渡层太厚容易引起基体软化,结合力反而会变差。

本底漏率:本底漏率是指真空室在未加入气体单位之前本身的单位漏率,漏率越大,进入炉内的杂气就越多,不管真空度多高,这会严重影响镀膜过程中炉内气氛的纯度和工件表面的洁净度,会***膜层的结合力和膜层颜色的纯度。


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真空镀膜的形式:蒸发镀膜

工艺原理:

1)在真空室中,膜料被加热变成蒸发原子,蒸发原子在真空条件下不与残余气

体分子碰撞而到达工件表面;

2)蒸发原子与基材碰撞后一部分被反射,另一部分被吸附;

3)吸附原子在基材表面发生表面扩散。



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