微纳米气泡观测

做为观查微纳米气泡的結果，气泡直徑伴随着时间的流逝而发生了转变。应用转盘式微纳米气泡产生器，而且从取样机器设备中取下气泡，并在伸开标准下检测。当气泡扩张时，右边的2个气泡会变小并做到值。能够看得出，它总算消失了。

此外，大家早已示出了根据微纳米气泡产生器的气泡直徑随時间的转变。依据该图，直径80μm或更小的小气泡的规格减少。能够看得出，收拢速率伴随着直徑的收拢而提升。大直徑的气泡趋向于澎涨。根据充压的微纳米气泡产生器的气泡直徑随時间的转变。能够看得出，即便更改转化成方式 ，小气泡也趋向于收拢，大气泡也趋向于澎涨。

臭氧微纳米气泡清洗晶片

我想介绍清洁半导体晶片的方法，作为显示微纳米气泡效果的示例之一。半导体（集成电路）也被称为工业大米，是支持现代社会的的电子组件。用于制造的技术称为光刻技术，清洁是制造中非常重要的步骤之一。传统上，强力化学***已用于清洁半导体晶圆。其中，使用***过氧化物（SPM：*** / 150℃）去除光致抗蚀剂（光敏有机材料）。尽管这种化学溶液具有强大的清洁能力，但存在废物处理和安全问题，因此被认为是在室温附近以“水”为基础进行清洁的理想技术。因此，我们一直在开发使用臭氧微纳米气泡的半导体晶片清洁技术。

纳米气泡制备方式一瞥

通过水流（压缩，膨胀，涡旋）使含电解质离子的水中的微纳米气泡崩溃，制造了纳米气泡，并成功地使其稳定。 气泡直径为100nm或更小，并且半衰期长，几个月。

纳米气泡发生器装置中，微纳米气泡首先由气体和液体的混合泵产生，微纳米气泡被内置于装置中的高速旋转装置剪切。

纳米气泡是通过在超纯水中施加超声波而产生的，并且可能存在亚稳态达数分钟或更长时间。 通过保持实验设备中的高压，产生的纳米气泡数量增加。 在水中溶解氧浓度过饱和的区域观察到纳米气泡，并且随着溶解氧浓度的增加，产生的纳米气泡量增加。 产生的纳米气泡量几乎与所施加的超声波的频率成比例地增加。 产生的气泡尺寸分布为100至1000nm。