微纳米气泡与纳米气泡

科学研究了髙速相机摄影造成微纳米气泡的原理。运用流动性数据可视化系统软件科学研究了从微纳米气泡到纳米气泡的收拢全过程设备中转动的两相流体力学的产生会造成微纳米气泡。微纳米气泡产生器设备出入口的转动速率约为每秒钟400转。基本上全部的微气泡泡都收拢并变为微纳米气泡，微纳米气泡与纳米气泡分离出来气泡在時间上的缩水率。很显著，微纳米气泡的临界值直徑刚开始收拢约为65微米。

微纳米气泡的稳定性

自打初次明确提出在非均相页面存有微纳米气泡至今，很多科学研究早已报导了观查微纳米气泡的取得成功。可是，让人诧异的平稳体制仍不清楚。在此项工作上，大家根据峰力敲打方式科学研究了纯净水-热裂解高纯石墨页面处的表层微纳米气泡。以便表明可靠性，大家引进了“钉扎力”，它是三相触碰网上每单位长度的力，并开展定量分析估计。用半球型一部分和骨节一部分中间钉扎力的差别表述了聚结器的微纳米气泡的亚稳性。

臭氧微纳米气泡清洗晶片

我想介绍清洁半导体晶片的方法，作为显示微纳米气泡效果的示例之一。半导体（集成电路）也被称为工业大米，是支持现代社会的的电子组件。用于制造的技术称为光刻技术，清洁是制造中非常重要的步骤之一。传统上，强力化学***已用于清洁半导体晶圆。其中，使用***过氧化物（SPM：*** / 150℃）去除光致抗蚀剂（光敏有机材料）。尽管这种化学溶液具有强大的清洁能力，但存在废物处理和安全问题，因此被认为是在室温附近以“水”为基础进行清洁的理想技术。因此，我们一直在开发使用臭氧微纳米气泡的半导体晶片清洁技术。