一、真空管式炉概述真空管式炉主要应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。主要用于粉体、电子、陶瓷等其它产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等二、真空管式炉特点1、炉膛材料采用进口陶瓷纤维，呈现温场均衡、表面温度低、升温速率快、节能等优点；2、电热元件采用进口高电阻合金丝，表面负荷高，发热速度快；3、炉体两端采用不锈钢密封法兰，耐高温、耐腐蚀；4、保护管采用高纯石英管，气管采用密封快接插头，安装方便；5、炉体采用双层空气隔热技术，配有自动冷却风扇，降低炉体外壳温度；6、控制系统采用进口40段程序控温，控温精度&plu***n;1℃，移相触发、可控硅控制；三、真空管式炉参数额定功率4KW额定电压AC220V***高温度1600℃额定温度1500℃升温速率≤10℃/min炉管尺寸Dia80X1000mm控温精度&plu***n;1℃控温方式32段程序PID程序控温（日本进口）热电偶型号B型加热元件硅钼棒炉管材料99刚玉重量约120Kg炉膛材料氧化铝多晶体纤维氧化铝含量95%（真空成型）美国进口炉壳表面温度≤35℃注：可根据用户要求另行设计制造，更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询！)