氧化鈰抛光粉H-500
氧化鈰抛光粉H-500H500氧化鈰抛光粉LUMINOX概要SEIMILUMINOX抛光粉是以稀土元素氧化鈰爲主要成份、經日本技術生産而成。H-500氧化鈰抛光粉主要用於精密度要求高的光***研磨、抛光。H-500氧化鈰抛光粉的原料爲碳酸稀土,和用氟碳鈰精礦做的抛光粉比較,具有氧化鈰濃度高、切削力大、耐久性長等特點。用途精密度要求高的光***研磨、抛光。特徵,切削力大、沈澱凝固少、不易堵塞抛光皮、不***生劃傷、表面精度高。産品技術參數(參考資料,非保***數值)品種平均粒徑(μm)TREO(%)CeO2(%)H-5002.09560※平均粒徑用激光粒度儀測定。(MICROTRACPARTICLESIZEANALYZERHRA)※TREO(TOTALRAREEARTHOXIDE):總氧化稀土含量。)
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