多源有机无机蒸发?系统多源有机无机蒸发镀膜机定做多源有机无机蒸发系统想了解更多关于电阻热蒸发镀膜产品的相关资讯，请持续关注本公司。主要用途：用于纳米级单层及多层金属膜、半导体膜等新材料的制备。广泛应用于大专院校的薄膜材料科研。系统组成:由真空室、蒸发源、样品台、真空测量、膜厚测试、电控系统组成。技术指标：极限真空度5.0×10-5Pa，系统漏率：1×10-7PaL/S；***真空时间：40分钟可达6.6×10Pa真空室：D形真空室，尺寸350×380mm样品台：尺寸为4英寸厚度3mm的平面样品；电极：数量：4支水冷结构；直径Φ20㎜样品基片:，基片在镀膜位置实现自转。基片的温度从室温至600℃4套挡板系统：基片挡板与源挡板；靶挡板共有3套，样品挡板（１套）石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统。欢迎拨打图片上的***电话或关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司！有机热蒸发镀膜机介绍1.真空室的极限真空度达5*10-5pa，漏率为关机12小时≤5pa2.真空腔内配有集约样品台一套，配有大挡板和16套小挡板，手动控制，开关方便快捷，每个小挡板挡两块30*30mm样片3.蒸发源共14套，其中10套有机蒸发源，4套金属蒸发源。控温精度±1℃，可以实现温度或电流补偿实现蒸镀速率稳定的功能4.金属蒸发源配4台一带一1000W可控硅调压电源，通过铜电极连接，两端可夹钨绞丝或者钽舟，钨绞丝可以蒸镀丝状或者大颗粒材料，钽舟可以蒸镀粉末状材料，蒸发源采用陶瓷全密封，避免交叉污染5.有机蒸发源配10台一带一温控电源，有机源温度为室温-500度，可以根据材料及用户需求自行调节6.样品台具有旋转、升降功能，可在线更换掩膜板一次，可同时装载30mm*30mm样品16块。本产品每两个样品都配有小挡板，并且通过PLC控制步进电机对每个小挡板做16个***，使机械手推拉小挡板，样品与蒸发源之间的间距为200-300mm以上内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助！)