OLED有机无机联合蒸发系统介绍以下是沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您一起分享的内容，沈阳鹏程真空技术有限责任公司***生产电阻热蒸发镀膜产品，欢迎新老客户莅临。OLED有机无机联合蒸发系统设备用途：适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。与手套箱联合系统的用户群体为科研院所及实验室，将真空蒸发系统工作室置于Glovebox无水、无氧、无尘的超纯环境中，PVD与Glovebox硬件无缝对接，操控融合一体，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域设备组成：该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。技术要求：1、镀膜室：镀膜腔室尺寸约为600×450×450mm，不锈钢材料，方形前后开门结构，内带有防污板。2、抽气系统：采用分子泵机械泵抽气系统；3、有机源蒸发源4个，容积5ml，2台蒸发电源，可测温控温，加热温度400℃，功率0.5Kw；3、挡板：蒸发源挡板采用自动磁力控制方式，控制其开启；4、样品架系统：可放置大小为Φ120mm的样品，旋转速度为：0～30转/分；5、设备带有断水断电连锁保护报警装置、防误操作保护报警装置。6、无机蒸发源2套、容积5ml，2台蒸发电源，加热电流300A，功率3.2Kw；7、石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?电阻热蒸发镀膜产品多源有机无机热蒸发镀膜机报价300D三源有机蒸发镀膜机主要用途：特别适合OPV/钙钛矿/无机薄膜太阳能电池、半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。系统组成:主要由真空室系统蒸发室、蒸发源系统、样品台系统、真空抽气及测量系统、气路系统、控制系统、膜厚测试系统、电控系统组成。技术指标：极限真空度6.7×10-5Pa，系统漏率：1×10-7PaL/S；***真空时间：40分钟可达6.6×10Pa（短时间暴露大气并充干燥氮气后开始抽气）样品台：尺寸为4英寸平面样品；蒸发源：3套4套挡板系统：挡板共有3套，动密封手动控制；气路系统:质量流量控制器1路石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统如需了解更多电阻热蒸发镀膜产品的相关内容，欢迎拨打图片上的***电话！)