佛山市锦城镀膜有限公司以耐高温车辆灯具注塑镀膜为主的***生产厂家，公司秉承“以质取胜，求真务实，顾客至上”理念，欢迎广大客户光临了解,我们将为你的产品锦上添花.镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响：弧靶电流：弧靶电流越大，靶材蒸发量越大，靶面温度越高，冷却越差，弧靶产生的液滴大颗粒越多，膜层外观越差，膜层中的缺陷越多。镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响：基体温度：镀膜时基体温度直接影响膜层的结构、致密性和附着力，温度可用T/Tm值来确定，如；靶材为钛，其熔点为1670℃，基体温度应该选择TI/TM=0.15-0.25即250-417℃才能得到理想的晶粒***。真空镀膜的形式：蒸发镀膜工艺原理：4）沉积原子之间产生两维碰撞，形成簇团，有的在表面停留一段时间后再蒸发。考虑到沉积粒子受负偏压作用加速轰击工件还会引起温升，基体可选在250-300℃镀膜基片镀膜基片有：浮法原片、切磨玻璃、钢化玻璃、彩釉玻璃、夹层玻璃等。镀膜前基片必须用纯净水清洗，去除基片表面的灰尘、污垢、油腻等杂质，因为表面的杂质将会影响膜层的附着能力，或者影响镀膜玻璃的外观质量。真空镀膜技术优点主要表现在以下几个方面：1、使塑料表面有导电性。如果基片表面存在胶印、笔印等不能清洗掉的杂质，在清洗之前必须用酒精将杂质擦去。)