自动磁控溅射系统概述带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，大到6旋转平台，300型磁控蒸发一体机，可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7Torr，15分钟内可以达到10-6Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，300型磁控蒸发一体机定做，可以获得想要的均匀度和沉积速度。带有14”立方形不锈钢腔体，4个2”的磁控管，DC直流和RF射频电源。在选配方面，350l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。以上就是关于磁控溅射产品的相关内容介绍，如有需求，欢迎拨打图片上的***电话！小型自动磁控溅射仪沈阳鹏程真空技术有限责任公司——***磁控溅射产品供应商，我们为您带来以下信息。1.溅射室极限真空度：≤6.6×10-6Pa2.系统真空检漏漏率：≤5.0×10-7Pa.l/S3.系统从大气开始抽气：溅射室30分钟可达到6.6×10-4Pa；4.系统停泵关机12小时后真空度：≤5Pa5.溅射真空室1套，立式上开盖结构，尺寸不小于Ф300mm×300mm，全不锈钢结构，弧焊接，表面进行电化学抛光，内含防污内衬，300型磁控蒸发一体机厂家，可内烘烤到100～150℃，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封，腔体内有照明系统6.磁控溅射系统3套，提供3块测试靶材。镀膜不均匀度≤5%7.旋转基片台1套，样品台可放置不小于100mm样品1片，具有连续旋转功能，旋转0—30转/分连续可调。基片加热温度：室温—500°C连续可调，由热电偶闭环反馈控制，加热电源配备控温表，控温方式为PID自动控温及数字显示8.观察窗口及法兰接口部件1套9.工作气路1套，包含：100SCCM、20SCCM质量流量控制器、CF16截止阀、管路、接头等共2路；DN16充气阀、管路、接头等2路；10.抽气机组及阀门、管道1套，包含1台进口复合分子泵及变频控制电源（680L/s，德国普发Hipace700分子泵）；1台机械泵（4L/S），1台DN40气动截止阀，机械泵与真空室之间的旁抽管路1套，CC150气动闸板阀1台（用于复合分子泵与真空室隔离），节流阀1台，DN40旁抽气阀1台，压差式充气阀1台；管道采用不锈钢三通及波纹管，11.安装机台架组件1套，由优质方钢型材焊接成，快卸围板表面喷塑处理，机台表面用不锈钢蒙皮装饰，四只脚轮，可固定，可移动。磁控溅射的工作原理想要了解更多磁控溅射产品的相关内容，请及时关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司网站。磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B（磁场）所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨迹近似于磁控溅射一条摆线。若为环形磁场，300型磁控蒸发一体机生产厂家，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar来轰击靶材，从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加，二次电子的能量消耗殆尽，逐渐远离靶表面，并在电场E的作用下沉积在基片上。由于该电子的能量很低，传递给基片的能量很小，致使基片温升较低。磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程，和靶原子碰撞，把部分动量传给靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量，离开靶被溅射出来。沈阳鹏程有限公司-300型磁控蒸发一体机由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。沈阳鹏程真空技术有限责任公司（）为客户提供“电阻热蒸发镀膜，磁控溅射，激光脉冲沉积，电子束”等业务，公司拥有“鹏程真空”等品牌。专注于成型设备等行业，在辽宁沈阳有较高知名度。欢迎来电垂询，联系人：董顺。)