小型自动磁控溅射仪沈阳鹏程真空技术有限责任公司——***磁控溅射产品供应商，我们为您带来以下信息。1.溅射室极限真空度：≤6.6×10-6Pa2.系统真空检漏漏率：≤5.0×10-7Pa.l/S3.系统从大气开始抽气：溅射室30分钟可达到6.6×10-4Pa；4.系统停泵关机12小时后真空度：≤5Pa5.溅射真空室1套，立式上开盖结构，尺寸不小于Ф300mm×300mm，全不锈钢结构，弧焊接，表面进行电化学抛光，内含防污内衬，可内烘烤到100～150℃，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封，腔体内有照明系统6.磁控溅射系统3套，提供3块测试靶材。镀膜不均匀度≤5%7.旋转基片台1套，样品台可放置不小于100mm样品1片，具有连续旋转功能，旋转0—30转/分连续可调。基片加热温度：室温—500°C连续可调，由热电偶闭环反馈控制，加热电源配备控温表，控温方式为PID自动控温及数字显示8.观察窗口及法兰接口部件1套9.工作气路1套，包含：100SCCM、20SCCM质量流量控制器、CF16截止阀、管路、接头等共2路；DN16充气阀、管路、接头等2路；10.抽气机组及阀门、管道1套，包含1台进口复合分子泵及变频控制电源（680L/s，德国普发Hipace700分子泵）；1台机械泵（4L/S），1台DN40气动截止阀，机械泵与真空室之间的旁抽管路1套，CC150气动闸板阀1台（用于复合分子泵与真空室隔离），节流阀1台，DN40旁抽气阀1台，压差式充气阀1台；管道采用不锈钢三通及波纹管，11.安装机台架组件1套，由优质方钢型材焊接成，快卸围板表面喷塑处理，机台表面用不锈钢蒙皮装饰，四只脚轮，可固定，可移动。双室磁控溅射系统想了解更多关于磁控溅射产品的相关资讯，请持续关注本公司。设备简介主要特点是设备体积小，结构简单紧凑易于操作，对实验室供电要求低；该系列设备主要部件采用进口或者国内***优的配置，从而提高设备的稳定性；另外自主开发的智能操作系统在设备的运行重复性及安全性方面得到更好地保障。目前该系列有基本型、旗舰型、豪华型、尊享型4种不同配置可供选择，可以根据客户的不同需求进行配置，比较灵活；标配4只Φ2英寸永磁靶，4台500W直流溅射电源，主要用来开发纳米级单层及多层的金属导电膜、半导体膜以及绝缘膜等。磁控溅射——溅射技术介绍直流溅射法：直流溅射法要求靶材能够将从离子轰击过程中得到的正电荷传递给与其紧密接触的阴极，从而该方法只能溅射导体材料，不适于绝缘材料。因为轰击绝缘靶材时，表面的离子电荷无法中和，这将导致靶面电位升高，外加电压几乎都加在靶上，两极间的离子加速与电离的机会将变小，甚至不能电离，导致不能连续放电甚至放电停止，溅射停止。故对于绝缘靶材或导电性很差的非金属靶材，须用射频溅射法（RF）。溅射过程中涉及到复杂的散射过程和多种能量传递过程：入射粒子与靶材原子发生弹性碰撞，入射粒子的一部分动能会传给靶材原子；某些靶材原子的动能超过由其周围存在的其它原子所形成的势垒（对于金属是5-10eV），从而从晶格点阵中被碰撞出来，产生离位原子；这些离位原子进一步和附近的原子依次反复碰撞，产生碰撞级联；当这种碰撞级联到达靶材表面时，如果靠近靶材表面的原子的动能大于表面结合能（对于金属是1-6eV），这些原子就会从靶材表面脱离从而进入真空。如需了解更多磁控溅射产品的相关信息，欢迎关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司网站或拨打图片上的热点电话，我司会为您提供***、周到的服务。)