自动磁控溅射系镀膜机介绍以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助。自动磁控溅射系统选配项：RF、DC溅射热蒸镀能力RF或DC偏压（1000V）样品台可加热到700°C膜厚监测仪基片的RF射频等离子清洗应用：晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆光学以及ITO涂覆带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆带RF射频等离子放电的反应溅射自动磁控溅射系统概述带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，磁控溅射镀膜设备批发，大到6旋转平台，可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7Torr，15分钟内可以达到10-6Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。带有14”立方形不锈钢腔体，4个2”的磁控管，DC直流和RF射频电源。在选配方面，350l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。以上就是关于磁控溅射产品的相关内容介绍，磁控溅射镀膜设备，如有需求，欢迎拨打图片上的***电话！小型自动磁控溅射仪沈阳鹏程真空技术有限责任公司——***磁控溅射产品供应商，我们为您带来以下信息。1.溅射室极限真空度：≤6.6×10-6Pa2.系统真空检漏漏率：≤5.0×10-7Pa.l/S3.系统从大气开始抽气：溅射室30分钟可达到6.6×10-4Pa；4.系统停泵关机12小时后真空度：≤5Pa5.溅射真空室1套，立式上开盖结构，尺寸不小于Ф300mm×300mm，全不锈钢结构，磁控溅射镀膜设备供应，弧焊接，表面进行电化学抛光，内含防污内衬，可内烘烤到100～150℃，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封，腔体内有照明系统6.磁控溅射系统3套，提供3块测试靶材。镀膜不均匀度≤5%7.旋转基片台1套，样品台可放置不小于100mm样品1片，具有连续旋转功能，旋转0—30转/分连续可调。基片加热温度：室温—500°C连续可调，由热电偶闭环反馈控制，加热电源配备控温表，磁控溅射镀膜设备多少钱，控温方式为PID自动控温及数字显示8.观察窗口及法兰接口部件1套9.工作气路1套，包含：100SCCM、20SCCM质量流量控制器、CF16截止阀、管路、接头等共2路；DN16充气阀、管路、接头等2路；10.抽气机组及阀门、管道1套，包含1台进口复合分子泵及变频控制电源（680L/s，德国普发Hipace700分子泵）；1台机械泵（4L/S），1台DN40气动截止阀，机械泵与真空室之间的旁抽管路1套，CC150气动闸板阀1台（用于复合分子泵与真空室隔离），节流阀1台，DN40旁抽气阀1台，压差式充气阀1台；管道采用不锈钢三通及波纹管，11.安装机台架组件1套，由优质方钢型材焊接成，快卸围板表面喷塑处理，机台表面用不锈钢蒙皮装饰，四只脚轮，可固定，可移动。磁控溅射镀膜设备供应-磁控溅射镀膜设备-沈阳鹏程真空技术公司由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。磁控溅射镀膜设备供应-磁控溅射镀膜设备-沈阳鹏程真空技术公司是沈阳鹏程真空技术有限责任公司（）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：董顺。)