一、系统功能及构成1.该系统为多源蒸发镀膜系统，系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜。系统主要由镀膜室、金属蒸发源(2套***，配电源)、旋转样品台、分子泵组、真空测量系统、膜厚仪、气路系统、电控系统等组成。2.镀膜极限真空度：≤10-5Pa(经烘烤除气后);真空获得采用分子泵(1200L/S)和机械泵(8L/S)+CF200主阀组成，此配置具有抽速快，可获得高真空环境，提供薄膜的洁净度。真空泵组前配有冷凝过滤井，放置蒸发材料污染真空系统。系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7Pa.l/S;系统从大气开始抽气：溅射室30分钟可达到5x10-4Pa;系统停泵关机1小时后真空度：≤5Pa3.镀膜室中配有2组热蒸发源，、分布在一个圆周上(下底盖位置均匀分布)，各源可***/顺次工作，配个圆形旋转挡板，挡板缺口移到哪个工位，哪个工位材料可以蒸发。4.样品台布置在真空室上部，可放置***大6英寸样品1片，样品具有连续旋转功能，旋转0—30转/分连续可调。5.真空测量采用进口INFICON全量程规进行测量。6.系统配有二路国产口MFC控制进气系统，流量分别为100SCCM、50SCCM。7.系统配有1个INFICON膜厚仪。二、系统的主要组成及技术指标溅射室极限真空度：≤10-6Pa(经烘烤除气后);系统真空检漏漏率：≤5.0x10-8Pa.l/S;系统从大气开始抽气：溅射室35分钟可达到5x10-4Pa;1、溅射真空室真空室为方形前开门结构，尺寸350mmx400mmx350mm(宽X高X深)全不锈钢结构。可内烘烤到100～150℃，选用不锈钢材料制造，***弧焊接，表面进行电化学抛光国内***钝化处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封;手动前开门结构;蒸发源安装在下盖板，基片转台在顶部，左侧面设置有光纤旋转装置。2、镀膜源2套蒸发源;3、旋转转基片台3.1基片尺寸和数量：6英寸样品一次放置1片。3.2、基片公转由调速电机驱动，0—30转/分连续可调，转动速度4、工作气路4.1、100SCCM、50SCCM质量流量控制器(国产)、DN6电动截止阀、管路、接头等：共2路5、抽气机组及阀门、管道5.1、分子泵;5.2、机械泵：;5.3、DN40电动截止阀：1台;5.4、机械泵与真空室之间的旁抽管路：1套;5.5、CC200气动闸板阀：1台;5.6、DN40旁抽角阀：1台5.7、配备一套低温冷阱及压缩机组件6、安装机台架组件优质方钢型材焊接成，快卸围板表面喷塑处理;机台表面用不锈钢蒙皮装饰;四只脚轮，可固定，可移动。7、真空测量溅射室采用进口INFICON复合规进行测量。8、系统采用PLC+触摸屏半自动控制方式)