我公司研制的滑轨式PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光均匀等效，这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍，并解决了物料不均匀堆积现象。该款设备是全自动Pla***a增强CVD系统（PECVD），系统可以实现连续滑动温区，连续可控制温度及Pla***a强度。PECVD是借助于辉光放电等方法产生等离子体，辉光放电等离子体中：1、电子密度高109-1012cm3电子气体温度比普通气体分子温度高出10-100倍，使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术。2、通过反应气态放电，有效地利用了非平衡等离子体的反应特征，从根本上改变了反应体系的能量供给方式低温热等离子体化学气相沉积法具有气相法的所有优点，工艺流程简单1.加热系统***高温度1200℃使用温度≤1100℃炉膛有效尺寸Φ100mm（适用于2-3英寸样品，炉管直径可根据实际需要定制。）炉膛材料氧化铝、高温纤维制品热电偶类型K型热电偶控温精度&plu***n;1℃控温方式30段可编程控温，PID参数自整定，操作界面为7”工控电脑，内置PLC控制程序。加热长度440mm恒温长度200mm加热原件电阻丝供电电源单相，220V，50Hz2、PE系统功率输出范围0W~500W***大反射功率100W射频输出接口50Ω,N-type,female功率稳定度≤5W谐波分量≤-50dbc供电电压单相交流（187V-253V）频率50/60HZ整机效率>=70%功率因素>=90%冷却方式强制风冷3、三路质子流量控制系统连接头类型双卡套不锈钢接头标准量程（N2)50sccm，100sccm、500sccm（可根据用户要求定制）准确度&plu***n;1.5%F.S线性&plu***n;1%F.S重复精度&plu***n;0.2%F.S响应时间气特性：1～4Sec，电特性：10Sec工作压差范围0.1～0.5MPa***大压力3MPa接口Φ6,1/4''显示4位数字显示工作环境温度5~45高纯气体压力真空表－0.1～0.15MPa,0.01MPa/格截止阀Φ6内外双抛不锈钢管Φ64、低真空机组空气相对湿度≤85%工作环境5℃～40℃工作电电压220V&plu***n;10%50~60HZ功率1KW抽气速率10m³/h极限真空5X10-1Pa工作压力范围1.01325X105～1.33X10-2Pa耐压值0.03MPa容油量1.1L进气口口径KF25排气口口径KF25噪音50dB连接方式采用波纹管，手动挡板阀与波纹管相连)