微光显微镜系统-微光显微镜-特斯特(查看)
EMMI侦测的到亮点、热点(HotSpot)情况;原来就会有的亮点、热点(HotSpot)饱和区操作中的BJT或MOS(SaturatedOrActiveBipolarTransistors/SaturatedMOS)动态式CMOS(DynamicCMOS)二极管顺向与逆向偏压崩溃(ForwardBiasedDiodes/ReverseBiasedDiodesBreakdown)侦测不到亮点情况不会出现亮点的故障奥姆或金属的短路(OhmicShort/MetalShort)亮点被遮蔽之情况埋入式接面的漏电区(BuriedJuncti)金属线底下的漏电区(LeakageSitesUnderMetal)超声波扫描显微镜测试分类:按接收信息模式可分为反射模式与透射模式。按扫描方式分可分为C扫,微光显微镜检测,B扫,X扫,Z扫,分焦距扫描,微光显微镜厂家,分频率扫描等多种方式超声波扫描显微镜的应用领域半导体电子行业:半导体晶圆片、封装器件、大功率器件IGBT、红外器件、光电传感器件、***T贴片器件、MEMS等;材料行业:复合材料、镀膜、电镀、注塑、合金、超导材料、陶瓷、金属焊接、摩擦界面等;生物***:细胞动态研究、骨骼、血管的研究等.塑料封装IC、晶片、PCB、LED超声波扫描显微镜应用范围:超声波显微镜的在失效分析中的优势非***性、无损检测材料或IC芯片内部结构可分层扫描、多层扫描实施、直观的图像及分析缺陷的测量及缺陷面积和数量统计可显示材料内部的三维图像对***是没有伤害的可检测各种缺陷(裂纹、分层、夹杂物、附着物、空洞、孔洞等)超声波扫描显微镜特点:非***性、对样品无损坏。分辨率高,可确定缺陷在样品内部的准确位置。工作方式按接收信息模式可分为反射模式与透射模式。按扫描方式分可分为C扫,B扫,微光显微镜系统,X扫,微光显微镜,Z扫,分焦距扫描,分波长扫描等多种方式。二次打标假l冒识别塑封器件二次打标可用于塑封元器件表面标识的假l冒识别,通过对期间标识层的多层扫描可发现二次打标痕迹。微光显微镜系统-微光显微镜-特斯特(查看)由苏州特斯特电子科技有限公司提供。苏州特斯特电子科技有限公司位于苏州工业园区新平街388号腾飞创新园23幢5层04室5529C号房间。在市场经济的浪潮中拼博和发展,目前苏州特斯特在分析仪器中享有良好的声誉。苏州特斯特取得全网商盟认证,标志着我们的服务和管理水平达到了一个新的高度。苏州特斯特全体员工愿与各界有识之士共同发展,共创美好未来。)