NR9-1000py问题回馈：1．我们是LED制造商，麻烦推荐几款可以用于离子蚀刻和Lift-off工艺的光刻胶。A据我所知，Futurrex有几款胶很，NR7-1500PNR7-3000P是专门为离子蚀刻设计的，NR9-3000PY可以用于Lift-off上的应用。2．请问有没有可以替代goodpr1518，Micropure去胶液和goodpr显影液的产品？A美国光刻胶，Futurrex正胶PR1-2000A，去胶液RR4，和显影液RD6可以解决以上问题。3．你们是否有可以替代ShipleyS1805的用于DVD的应用产品？A我们建议使用FuturrexPR1-500A，它有几个优点：比较好的解析度，比较好的线宽控制，反射比较少，不需要HMDS，NR73G6000P光刻胶哪家好，RIE后去除容易等~4．求助，耐高温的光阻是那一种？AFuturrex，NR7serious(负光阻)Orpr1serious(正光阻)，再经过HMCTSsilyiationprocess，可以达到耐高温200度，PSPI透明polyimide，可耐高温250度以上。5．厚膜光阻在镀金应用上，用哪一种比较理想？AFuturrex，NR4-8000P比干膜，和其他市面上的湿膜更加适合，和理想。6．请教LIFT-OFF制程哪一种光阻适合？A可以考虑使用Futurrex，正型光阻PR1，NR73G6000P光刻胶哪里有，负型光阻用NR1&NR7，它们都可以耐高温180度，NR73G6000P光刻胶厂家，完全可以取代一般制作PATTERN的光阻。7．请问，那位知道，RIEMask，用什么光阻比较好？A正型光阻用PR1系列，负型光阻使用NR5，两种都可以耐高温180度。8．一般厚膜制程中，哪一种光阻适合？ANR9-8000P有很高的深宽比（超过4：1），一般厚膜以及，MEMS产品的高需求。9．在DEEPRIE和MASK可以使用NRP9-8000P吗？A建议不使用，因为使用NR5-8000更加理想和适合。10．我们是OLED，NR73G6000P光刻胶，我们有一种制程上需要一层SPACER，那种光阻适合？A有一种胶很适合，美国Futurrex生产的NR1-3000PYand和NR1-6000PY，都适合在OLED制程中做spacersPR1-1500A1NR73G6000P光刻胶正性光刻胶的金属剥离技术正性胶的金属剥离工艺对于获得难腐蚀金属的细微光刻图形比常规的光刻胶掩蔽腐蚀法显示了优越性。本文首先对金属剥离工艺中的正、负光刻胶的性能作了对比分析。认为正性光刻胶除图形分辨率高而适应于微细图形的掩膜外，它还具有图形边缘陡直，去胶容易等性能，比负性光刻胶更有利于金属剥离工艺。然后给出了具体的工艺条件，并根据正性光刻胶的使用特点指出了工艺中的关键点及容易出现的问题。如正性光刻胶同GaAs表面的粘附性较差，这就要求对片子表面的清洁处理更为严格。为了高止光刻图形的漂移控制光刻图形的尺寸，对***时同特别是显影液温度提出了严格的要求。由于工艺中基本上不经过腐蚀过程，胶膜的耐腐蚀性降到了次要地位。二、预烘和底胶涂覆（Pre-bakeandPrimerVapor）由于光刻胶中含有溶剂，所以对于涂好光刻胶的硅片需要在80度左右的。硅片脱水烘焙能去除圆片表面的潮气、增强光刻胶与表面的黏附性、通常大约100°C。这是与底胶涂覆合并进行的。底胶涂覆增强光刻胶(PR)和圆片表面的黏附性。广泛使用:(HMDS)、在PR旋转涂覆前HMDS蒸气涂覆、PR涂覆前用冷却板冷却圆片。NR73G6000P光刻胶哪家好-北京赛米莱德由北京赛米莱德贸易有限公司提供。北京赛米莱德贸易有限公司实力不俗，信誉可靠，在北京大兴区的半导体材料等行业积累了大批忠诚的客户。赛米莱德带着精益求精的工作态度和不断的完善创新理念和您携手步入辉煌，共创美好未来！)