兴之扬***T蚀刻不锈钢网小编给大家介绍点蚀缝隙腐蚀是什么？在电解液中，金属与金属或金属与非金属表面之间构成狭窄的缝隙，缝隙内有关物质的移动受到了阻滞，形成浓差电池，从而产生局部腐蚀，这种腐蚀被称为缝隙腐蚀。缝隙腐蚀常发生在设备中法兰的连接处，垫圈、衬板、缠绕与金属重叠处，它可以在不同的金属和不同的腐蚀介质中出现，从而给生产设备的正常运行造成严重障碍，甚至发生***事故。对钛及钛合金来说，缝隙腐蚀是应关注的腐蚀现象。介质中，氧气浓度增加，缝隙腐蚀量增加；PH值减小，阳极溶解速度增加，缝隙腐蚀量也增加；活性阴离子的浓度增加，缝隙腐蚀敏***升高。但是，某些含氧阴离子的增加会减小缝隙腐蚀量。兴之扬316不锈钢网片小编给大家介绍什么是二氧化硅的湿式蚀刻：在微电子组件制作应用中，二氧化硅的湿式蚀刻通常采用HF溶液加以进行(5)。而二氧化硅可与室温的HF溶液进行反应，但却不会蚀刻硅基材及复晶硅。反应式如下：SiO2+6HF=H2+SiF6+2H2O由于HF对二氧化硅的蚀刻速率相当高，在制程上很难控制，因此在实际应用上都是使用稀释后的HF溶液，或是添加NH4F作为缓冲剂的混合液，来进行二氧化硅的蚀刻。NH4F的加入可避免氟化物离子的消耗，以保持稳定的蚀刻速率。而无添加缓冲剂HF蚀刻溶液常造成光阻的剥离。典型的缓冲氧化硅蚀刻液(BOE:BufferOxideEtcher)(体积比6:1之NH4F(40%)与HF(49%))对于高温成长氧化层的蚀刻速率约为1000?/min。在半导体制程中，二氧化硅的形成方式可分为热氧化及化学气相沉积等方式；而所采用的二氧化硅除了纯二氧化硅外，尚有含有杂质的二氧化硅如BPSG等。然而由于这些以不同方式成长或不同成份的二氧化硅，其组成或是结构并不完全相同，因此HF溶液对于这些二氧化硅的蚀刻速率也会不同。但一般而言，高温热成长的氧化层较以化学气相沉积方式之氧化层蚀刻速率为慢，因其组成结构较为致密。为什么选用蚀刻不锈钢？海水淡化的方法主要有两种：热法和膜法。热法包括多级闪蒸法（MSF）和多效蒸馏法（MED）。膜法包括反复渗透渗出（RO）和电渗析法/反复电渗析法（ED/EDR）。不锈钢因为具有耐侵蚀特性用在各种淡化方法的工程中。所有的淡化方法都是同样的过程。引入的海水分为两部门，一部门作处理，另一部门浓缩。处理的海水盐浓度降低而浓缩的海水盐度远高于原海水。海水淡化过程所用设备材料需具有耐侵蚀的特性。材料的选择和设计原则取决于材料的服役环境。不锈钢因为其耐侵蚀和耐用性使其成为理想的材料。)