蚀刻时间控制对不锈钢蚀刻片有哪些影响？当蚀刻液中其他条件不变的情况下.温度在65℃左右.约lmin即可在不锈钢表面形成均匀纹理.在2min左右达到理想效果。个别不锈钢这一效果需要4min.比如某些防锈不锈钢,像蚀刻加工过滤网、不锈钢过滤片时就需要4min。从总的情况来看.延长处理时间.不锈钢表面纹理粗糙度和均匀性都增加，但达到较大粗糙度后，再延长时间并不能使不锈钢表面纹理粗糙度再增加，反而会使不锈钢的蚀刻量增大，溶液中有效成分损失增大，增加生产成本，造成不锈钢件过量蚀刻，导致工件报损.且处理时间过长还会***纹理效果.使纹理蚀刻失败。如果处理时间太短，虽然铝的蚀刻量减少。溶液有效成分损失减少，但纹理形成均匀性降低，且粗糙度降低。一般以1–2min为宜。对于不同不锈钢，通过样品蚀刻确定蚀刻加工时间很重要。兴之扬吹风机钢网片小编给大家介绍湿式蚀刻对溶液浓度及温度有什么要求：湿式蚀刻的速率通常可藉由改变溶液浓度及温度予以控制。溶液浓度可改变反应物质到达及离开待蚀刻物表面的速率，一般而言，当溶液浓度增加时，蚀刻速率将会提高。而提高溶液温度可加速化学反应速率，进而加速蚀刻速率。湿式蚀刻除了溶液的选用外，选择适用的屏蔽物质亦是十分重要的，它必须与待蚀刻材料表面有很好的附着性、并能承受蚀刻溶液的侵蚀且稳定而不变质。而光阻通常是一个很好的屏蔽材料，且由于其图案转印步骤简单，因此常被使用。但使用光阻作为屏蔽材料时也会发生边缘剥离或龟裂的情形。边缘剥离乃由于蚀刻溶液的侵蚀，造成光阻与基材间的黏着性变差所致。解决的方法则可使用黏着促进剂来增加光阻与基材间的黏着性，如Hexamethyl-disilazane(HMDS)。龟裂则是因为光阻与基材间的应力差异太大，减缓龟裂的方法可利用较具弹性的屏蔽材质来吸收两者间的应力差。蚀刻化学反应过程中所产生的气泡常会造成蚀刻的不均匀性，气泡留滞于基材上阻止了蚀刻溶液与待蚀刻物表面的接触，将使得蚀刻速率变慢或停滞，直到气泡离开基材表面。因此在这种情况下会在溶液中加入一些催化剂增进蚀刻溶液与待蚀刻物表面的接触，并在蚀刻过程中予于搅动以加速气泡的脱离。兴之扬蚀刻不锈钢网片小编给大家介绍什么是氮化硅的湿式蚀刻:氮化硅可利用加热至180°C的磷酸溶液(85%)来进行蚀刻(5)。其蚀刻速率与氮化硅的成长方式有关，以电浆辅助化学气相沉积方式形成之氮化硅，由于组成结构(SixNyHz相较于Si3N4)较以高温低压化学气相沉积方式形成之氮化硅为松散，因此蚀刻速率较快许多。但在高温热磷酸溶液中光阻易剥落，因此在作氮化硅图案蚀刻时，通常利用二氧化硅作为屏蔽。一般来说，氮化硅的湿式蚀刻大多应用于整面氮化硅的剥除。对于有图案的氮化硅蚀刻，还是采用干式蚀刻为宜。)