不锈钢微孔网片用什么工艺加工不锈钢微孔网片广泛应用于工业/化工、家电等过滤系统中，这些产品主要特性体现在网孔孔径较小（0.03-0.1mm不等），网孔密集，因此冲压，激光等工艺加工起来有一定的局限性。那么不锈钢微孔网用什么工艺加工好呢？兴之扬建议针对这些产品的需求，可以采用蚀刻工艺进行加工。蚀刻加工可以解决大批量，微网孔，高密度的加工问题。蚀刻工艺一般是通过制作产品对应的网孔菲林片图形，然后进行***转移到不锈钢表面，显影后在不锈钢表面形成可蚀刻与保护的图案，然后进入蚀刻机中进行加工。蚀刻工艺加工的不锈钢微孔网不会材料材质性能，不会对加工材料表面产生压力导致变形。因此对于微孔网来说，蚀刻工艺是适合的方法。兴之扬蚀刻不锈钢网片小编来向大家说说电浆干法蚀刻中的基本物理及化学现象：在干法蚀刻中，随着制程参数及电浆状态的改变，可以区分为两种的性质的蚀刻方式，即纯物理性蚀刻与纯化学反应性蚀刻。纯物理性蚀刻可视为一种物理溅镀(Sputter)方式，它是利用辉光放电，将气体如Ar，解离成带正电的离子，再利用偏压将离子加速，溅击在被蚀刻物的表面，而将被蚀刻物质原子击出。此过程乃完全利用物理上能量的转移，故谓之物理性蚀刻。其特色为离子撞击拥有很好的方向性，可获得接近垂直的蚀刻轮廓。但缺点是由于离子是以撞击的方式达到蚀刻的目的，因此光阻与待蚀刻材料两者将同时遭受蚀刻，造成对屏蔽物质的蚀刻选择比变差，同时蚀刻终点必须掌控，因为以离子撞击方式蚀刻对于底层物质的选择比很低。且被击出的物质往往非挥发性物质，而这些物质容易再度沉积至被蚀刻物薄膜的表面或侧壁。加上蚀刻效率偏低，因此，以纯物理性蚀刻方式在集成电路制造过程中很少被用到。纯化学反应性蚀刻，则是利用电浆产生化学活性极强的原(分)子团，此原(分)子团扩散至待蚀刻物质的表面，并与待蚀刻物质反应产生挥发性之反应生成物，并被真空设备抽离反应腔。因此种反应完全利用化学反应来达成，故谓之化学反应性蚀刻。此种蚀刻方式相近于湿式蚀刻，只是反应物及产物的状态由液态改变为气态，并利用电浆来促进蚀刻的速率。因此纯化学反应性蚀刻拥有类似于湿式蚀刻的优点及缺点，即高选择比及等向性蚀刻。在半导体制程中纯化学反应性蚀刻应用的情况通常为不需做图形转换的步骤，如光阻的去除等。为什么选用蚀刻不锈钢？海水淡化的方法主要有两种：热法和膜法。热法包括多级闪蒸法（MSF）和多效蒸馏法（MED）。膜法包括反复渗透渗出（RO）和电渗析法/反复电渗析法（ED/EDR）。不锈钢因为具有耐侵蚀特性用在各种淡化方法的工程中。所有的淡化方法都是同样的过程。引入的海水分为两部门，一部门作处理，另一部门浓缩。处理的海水盐浓度降低而浓缩的海水盐度远高于原海水。海水淡化过程所用设备材料需具有耐侵蚀的特性。材料的选择和设计原则取决于材料的服役环境。不锈钢因为其耐侵蚀和耐用性使其成为理想的材料。)