卧式磁控溅射镀膜机
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主要用途:
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料科研与小批量制备。
系统组成:
主要由真空室系统溅射室、靶及电源系统、样品台系统、真空抽气及测量系统、气路系统、控制系统、电控系统、计算机控制系统及辅助系统等组成。
双靶磁控溅射镀膜机的特点有哪些?
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产品特点
1:此款镀膜仪配置有两个靶枪:一个靶枪配套的是射频电源,用于非导电靶材的溅射镀膜;一个靶枪配套的是直流电源,用于导电材料的溅射镀膜
2:该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜,应用非常广泛。
3:该镀膜仪体积较小,且配备有触摸屏控制面板,操作方便。
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