高温束源炉技术特征

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高温束源炉，包括机架，其特征在于，包括底座和垂直设置在所述底座上的立杆，本体包括坩埚、加热丝、冷却波纹管和电极组件，底座的上方设置有保护罩，超高真空观察窗，保护罩内设置有所述坩埚和所述加热丝，坩埚上设置有所述加热丝，坩埚的外侧设置有屏蔽层，超高真空观察窗生产厂家，底座上设置有所述冷却波纹管和所述电极组件，冷却波纹管通过连接管路与所述束源炉本体连通，电极组件通过连接引线与所述束源炉本体连接。

加热样品台的设计原理

设计原理为：将样品槽设置在中空腔中，中空腔中通入热空气对样品槽进行加热，从而对样品进行传热加热，而随着热空气装置不断向中空腔中通入空气，中空腔中的压力会增大，从而通过泄压口向气管排气，排出的气体会通过气管到达多孔头，从而对样品容器通入热空气，一方面热空气对样品容器中的样品进行加热，另一方面还能起到空气搅拌的作用。

热空气装置包括空压机、加热箱和管道，空压机通过所述管道与所述加热箱连通，超高真空观察窗定做，加热箱通过管道与所述中空腔连通，空压机产生的空气通过管道进入到加热箱中进行加热，超高真空观察窗厂家，并经管道通入到中空腔中。

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靶材的类别有哪些？

溅射靶材的种类较多，即使相同材质的溅射靶材也有不同的规格。按照不同的分类方法，能够将溅射靶材分为不同的类别，主要分类情况如下:

按形状分类:长靶、方靶、圆靶按化学成份分类:金属靶材(纯金属铝、钛、铜、钽等)、合金靶材(镍铬合金、镍钴合金等)、陶瓷化合物靶材(氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等)

按应用领域分类:半导体芯片靶材、平面显示器靶材、太阳能电池靶材、信息存储靶材、I具改性靶材、电子器件靶材、其他靶材。

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