多源有机无机蒸发?系统金属蒸发镀膜机价格

多源有机无机蒸发系统

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主要用途：

用于纳米级单层及多层金属膜、 半导体膜等新材料的制备。广泛应用 于大专院校的薄膜材料科研。

系统组成:

由真空室、蒸发源、样品台、 真空测量、膜厚测试、电控系统组成。

技术指标：

极限真空度5.0×10-5Pa，系统漏率：1×10-7PaL/S； ***真空时间：40分钟可达6.6×10 Pa

真空室：D形真空室，尺寸350× 380mm

样品台：尺寸为4英寸厚度3mm的平面样品；

电极：数量：4支水冷结构；直径Φ20㎜

样品基片:，基片在镀膜位置实现自转。基片的温度从室温至600℃

4套挡板系统：基片挡板与源挡板；靶挡板共有3套， 样品挡板（１套）

石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?

可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统。

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双靶磁控溅射镀膜仪

产品特点

1、此款镀膜仪配置有两个靶枪：一个靶枪配套的是射频电源，用于非导电靶材的溅射镀膜；一个靶枪配套的是直流电源，用于导电材料的溅射镀膜

2、该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜，应用非常广泛。

3、该镀膜仪体积较小，且配备有触摸屏控制面板，操作方便。

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派瑞林镀膜工艺介绍

沈阳鹏程真空技术有限责任公司***生产、销售电阻热蒸发镀膜产品，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。

派瑞林镀膜工艺，是一种气相沉积CVD的镀膜方式。其工艺过程如下：首先固态的派瑞林原料在蒸发腔内随着温度的升高逐渐吸热升华；升华后的二聚体气体进入裂解腔，在680℃左右的温度下，二聚体的分子键被断开，形成具有两个悬空键的活性Parylene单体；Parylene单体被送到室温的真空沉积室里，在工件表面进行聚合沉积，形成一层致密的保护膜层。