靶材提纯方法

超大规模集成电路制造过程中要反复用到的溅射(Sputtering)工艺属于物***相沉积(PVD)技术的一种，是制备电子薄膜材料的主要技术之超大规模集成电路制造过程中要反复用到的溅射(Sputtering)工艺属于物***相沉积(PVD)技术的一种，是制备电子薄膜材料的主要技术之

溅射工艺用离子源产生的离子，在高真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体 是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。

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水冷电缆电极性能要求

水冷电缆外护套胶管耐击穿电压V≧2300V。

水冷电缆外护套胶管耐工作水压P≧0.6Mpa。

外护套胶管与电极接口处冷却水无渗漏。

软体导线与电极在专用设备上冷挤压紧固。

200mm2标称截面积的试验拉力为15KN，在此基础上，水冷电缆标称截面积每增加100mm2，试验拉力值相应增， 加5KN。

水冷电缆的表面温升（包括连接处）不大于40K。

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靶材镀膜前的清洁

在进行镀膜前都必须将基片进行清洁，对于在线镀膜来说，这是很小的事情，但对离线镀膜来说却相当重要，而且操作起来也比较困难，对于大面积的镀膜来说，LF50水冷电极销售，将玻璃基片完全清洁干净是不可能的，因此，LF50水冷电极生产厂家，如何达到镀膜所必须要求的洁净程度就变得非常重要。要保持清洁程度足够高，如果清洁程度不够，膜层容易老化，甚至脱膜等现象。不同用途，LF50水冷电极，不同加工工艺的膜层对清洁程度要求是不一样的，对于目前我司生产的玻璃来说，LF50水冷电极价格， Low-E玻璃要求的玻璃洁净度不如热反射玻璃高。目前要为镀膜准备大面积的镀膜玻璃基片，主要采用的是一 种湿式清洁技术，这种技术包括三部分:

1.松动玻璃表面的杂质

2.去除已经松动的、分离的杂质

3.干燥已经清洁的玻璃表面

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