脉冲激光沉积介绍

脉冲激光沉积系统具有独特的优越性。它可以把激光烧蚀技术和我们所拥有的其他沉积技术（如RF源）集成于一台设备上。可以生长各种可能的材料。

● 配有6个旋转靶台，实现多层薄膜结构生长。

● 可与准分子激光和Yag激光相连。

● 在线监控仪器做为可选件，激光镀膜设备销售，为客户提供高质量的工艺信息反馈。

● 装载室不但可以装取样品，还可以与其他生长设备或分析设备相连。

应用

● 多元素复合氧化物

● 高温超导材料

● 磁性材料、金属材料

● 低蒸汽压材料

● MEMS

期望大家在选购脉冲激光沉积时多一份细心，少一份浮躁，不要错过细节疑问。想要了解更多脉冲激光沉积的相关资讯，PLD300A型激光镀膜设备销售，欢迎拨打图片上的***电话！！！

脉冲激光沉积机制

沈阳鹏程真空技术有限责任公司***生产、销售脉冲激光沉积，我们为您分析该产品的以下信息。

PLD的系统设备简单，相反，它的原理却是非常复杂的物理现象。它涉及高能量脉冲辐射冲击固体靶时，激光与物质之间的所有物理相互作用，亦包括等离子羽状物的形成，其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移，及膜的生成过程。所以，pld300型激光镀膜设备销售，PLD一般可以分为以下四个阶段：

1. 激光辐射与靶的相互作用

2. 熔化物质的动态

3. 熔化物质在基片的沉积

4. 薄膜在基片表面的成核（nucleation）与生成。

脉冲激光沉积系统特点及优势

可根据客户需求定制产品，PLD450型激光镀膜设备销售，灵活性高，并提供***的技术支持；靶台可以安装6个靶位，靶材更换灵活；样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用；进样室可以存储多个靶和样品；交易过程无需繁琐的进、出关手续， 交货期短，性价比高；

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