高温束源炉简介

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束源炉是一种蒸发镀膜装置是在高真空条件下，通过加热材料的方法，使坩埚中被蒸发物在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜，可用于镀半导体、金属膜，氧化物、纳米级单层及多层功能膜的连续沉积。

随着真空镀膜技术的不断发展，对镀膜设备的工艺需求也不断提出更高的要求，尤其在超高温蒸发设备领域更显突出。在超高温状态下所用材料的选用尤为重要，要求在正常高温下炉内气氛清洁，不能给工件带来污染，使用稳定性，温控精度等。

靶材镀膜工艺介绍

用于建筑玻璃的镀膜玻璃-般都镀薄膜。 我们把厚度低于1um的膜层叫薄膜，厚度高于1um的膜叫厚膜镀膜工艺是用不同的材料在基片表面形成新表面的方法。镀膜的方法很多,真空蒸发、真空溅射、化学还原、溶胶凝胶法等。它要求膜层要有非常强的附着力,附着力不强的叫覆盖。要获得强附着力,就必须将玻璃表面清洁干净。

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溅射靶材的作用是什么？

溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子 ,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。