光纤磁控溅射镀膜机组成

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设备用途：

在光纤表面镀制纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。配有阳极层离子源进行清洗和辅助沉积，同时设备具有反溅射清洗功能，以提高膜的质量和牢固度。专用样品台可镀制多种型号光纤产品

系统主要由真空室、磁控靶、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。

镀膜时样品中间会不均匀什么原因？

途中主要表述是溅射过程中，物质的动向图。并没有磁控条件限制。

顶部是靶材/阴极；中间为辉光区域；底部是溅射基体。

靶材和辉光之间为电压降区域，CK300磁控溅射镀膜机价格，给正离子提供足够能量的电场，正离子加速轰击到靶材上，使靶材的物质溅射出来，沉积到基体上（两侧的长线）；负离子、电子保持在辉光区，轰击气体原子。

辉光区发射出电子、离子、中性原子、光子等，这些组成等离子体（宇宙99%以上的组成物质为等离子体）

辉光和基体之间电压降很小。

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小型磁控溅射仪的优势

设备主要优势

实用性：设备集成度高，光纤磁控溅射镀膜机价格，结构紧凑，占地面积小，可以满足客户实验室空间不足的苛刻条件；通过更换设备上下法兰可以实现磁控与蒸发功能的转换，实现一机多用；

方便性：设备需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接线及安装调试简单，既保证了设备使用方便又保证了设备的整洁；

高性价比：设备主要零部件采用进口或国内品牌，以国产设备的价格拥有进口设备的配置，从而保证了设备的质量及性能；

安全性：***开发的PLC 触摸屏智能操作系统在传统操作系统的基础上新具备了漏气自检与提示、通讯故障自检、***维护提示等功能，保证了设备的使用安全性能；

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